編號：NMJS00856
篇名：TiN薄膜的制備及其納米力學(xué)性能研究
作者：肖衛(wèi)華; 崔秀芳; 何正彪;
關(guān)鍵詞：磁控濺射; 氮化鈦; 薄膜; 性能;
機構(gòu)： 泰州師范高等專科學(xué)校; 哈爾濱工程大學(xué)材料科學(xué)與化學(xué)工程學(xué)院;
摘要： 采用磁控濺射工藝制備了TiN薄膜,借助X射線衍射儀、場發(fā)射掃描電子顯微鏡、原子力顯微鏡和納米壓痕儀等設(shè)備,研究了薄膜制備工藝參數(shù)(如基體溫度、濺射功率、基體負偏壓等)對薄膜的相結(jié)構(gòu)、表面微觀形貌、納米硬度、彈性模量等的影響。結(jié)果表明:TiN薄膜為多晶態(tài),其濺射功率、基體負偏壓和基體溫度等條件對薄膜的形貌、結(jié)構(gòu)及納米硬度、彈性模量等的影響比較復(fù)雜。
