編號：NMJS00906
篇名：Ni-ZrO_2納米復(fù)合電沉積工藝參數(shù)優(yōu)選研究
作者：張文峰; 鄭曉虎;
關(guān)鍵詞：納米復(fù)合電沉積; 工藝參數(shù); 正交實(shí)驗(yàn); BP神經(jīng)網(wǎng)絡(luò); 復(fù)合量;
機(jī)構(gòu)： 蘇州職業(yè)大學(xué)機(jī)電系; 西安工業(yè)大學(xué)機(jī)電學(xué)院; 淮陰工學(xué)院機(jī)電系;
摘要： 在納米復(fù)合電沉積工藝中,通過優(yōu)選工藝參數(shù)可以獲得納米顆粒復(fù)合量較高的復(fù)合沉積層,以使其具有某些優(yōu)越的性能。筆者首先運(yùn)用正交實(shí)驗(yàn)法優(yōu)選了對復(fù)合沉積層中納米顆粒復(fù)合量有較大影響的工藝參數(shù),諸如鍍液中ZrO2顆粒懸浮量、陰極電流密度和鍍液溫度等,然后用BP神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)分析方法對其結(jié)果進(jìn)行分析處理。預(yù)測并得到納米顆粒復(fù)合量更高的復(fù)合沉積層,觀察了納米復(fù)合沉積層的表面形貌,并對其中納米顆粒分布的均勻性進(jìn)行了分析。
