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納米TiO_2-Ni基鍍層的電刷鍍沉積行為研究

編號:NMJS01117

篇名:納米TiO_2-Ni基鍍層的電刷鍍沉積行為研究

作者:周仕勇; 沈承金; 史強; 王芹芹;

關鍵詞:電刷鍍; 納米復合鍍層; 表面活性劑; 沉積行為;

機構: 中國礦業(yè)大學材料科學與工程學院;

摘要: 為了使納米顆粒均勻地懸浮在鍍液中從而獲得納米顆粒均勻分布的復合鍍層,研究了不同表面活性劑對納米TiO2在鍍液中的分散行為的影響,采用電刷鍍方法制備納米TiO2-Ni基復合鍍層,并運用SEM、EDS和XRD研究了納米TiO2-Ni基鍍層的表面形貌和成分特點。結果表明,陽離子型表面活性劑十六烷基三甲基氯化銨(CTAB)對納米TiO2顆粒的分散效果最好,沉降時間超過40min;CTAB分散的納米TiO2-Ni基鍍層顯微硬度比不加表面活性劑的提高50%左右,鍍層結合性較好,孔隙率顯著降低;CTAB分散的納米TiO2-Ni基鍍層均勻細致、晶粒細小,納米TiO2被生長著的鎳晶粒夾持嵌埋,分布于鎳基間隙中,鍍層由納米TiO2顆粒和鎳基組成。納米粉末與鎳共沉積符合遷移、吸附、嵌埋的過程。

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