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鈦片真空熱氧化制備二氧化鈦納米線

編號(hào):NMJS01277

篇名:鈦片真空熱氧化制備二氧化鈦納米線

作者:唐名早; 吳進(jìn)明; 孟亮;

關(guān)鍵詞:二氧化鈦; 納米線; 真空; 熱氧化;

機(jī)構(gòu): 浙江大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)系;

摘要: 對(duì)經(jīng)過(guò)不同預(yù)處理的鈦片進(jìn)行真空熱氧化處理,在表面原位制得了TiO2納米線。利用場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡(FE-SEM)、高分辨透射電子顯微鏡(HR-TEM)和X射線衍射儀(XRD)對(duì)原位制備的TiO2納米線的表面形貌及相結(jié)構(gòu)進(jìn)行表征,并通過(guò)降解水中染料羅丹明B的方式對(duì)經(jīng)不同時(shí)間熱氧化處理后酸洗鈦片的光催化性能進(jìn)行測(cè)試。薄膜結(jié)構(gòu)表征結(jié)果表明,一定真空條件下鈦片750℃熱氧化5~10 h后可以獲得大量直徑40~50 nm,長(zhǎng)度3.0~5.0μm的單晶金紅石結(jié)構(gòu)TiO2納米線;使用H2 O2氧化鈦片表面預(yù)先獲得一層多孔非晶TiO2薄層顯著影響納米線的生長(zhǎng)。光催化性能測(cè)試結(jié)果表明,真空熱氧化處理1 h獲得的扁平片狀納米結(jié)構(gòu)金紅石具有最高的光催化降解羅丹明B的能力;處理時(shí)間從5 h延長(zhǎng)到10 h,得到的納米線金紅石薄膜的光催化性能提高。

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