編號(hào)：NMJS01325
篇名：基于磁控濺射離子鍍技術(shù)的不同晶態(tài)純Cr薄膜微觀組織結(jié)構(gòu)研究
作者：李洪濤; 蔣百靈; 楊波; 曹政;
關(guān)鍵詞：柱狀晶; 等軸晶; 納米晶; 非晶;
機(jī)構(gòu)： 西安理工大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院;
摘要： 基于磁控濺射離子鍍技術(shù),制備了不同晶態(tài)結(jié)構(gòu)的純Cr薄膜,分析了電場(chǎng)環(huán)境對(duì)純Cr薄膜晶態(tài)結(jié)構(gòu)影響的客觀規(guī)律;結(jié)合濺射原理和薄膜生長(zhǎng)原理揭示了電場(chǎng)環(huán)境對(duì)純Cr薄膜生長(zhǎng)過(guò)程影響的內(nèi)在機(jī)理;探討了磁控濺射離子鍍技術(shù)在工程材料的納米化、非晶化進(jìn)程中應(yīng)有的功能,旨在為納米材料的研發(fā)及其制備技術(shù)的創(chuàng)新提供參考依據(jù)。
