編號：NMJS01327
篇名：調(diào)制比對TiB_2/TiAlN納米多層膜結(jié)構(gòu)和機械性能的影響
作者：劉思鵬; 鄧湘云; 李德軍;
關(guān)鍵詞：磁控濺射; TiB2/TiAlN納米多層膜; 調(diào)制比; 硬度;
機構(gòu)： 天津師范大學(xué)物理與電子信息學(xué)院;
摘要： 利用射頻磁控濺射技術(shù)在室溫下合成了具有納米調(diào)制周期的TiB2/TiAlN多層膜.分別采用X射線衍射儀(XRD)、表面輪廓儀、納米力學(xué)測試系統(tǒng)和多功能材料表面性能實驗儀分析了調(diào)制比對TiB2/TiAlN納米多層膜結(jié)構(gòu)和機械性能的影響.結(jié)果表明:大部分多層膜的納米硬度和彈性模量值均高于兩種個體材料混合相的值,在調(diào)制比為tTiB2∶tTiAlN=5∶2時,多層膜體系的硬度超過36GPa,其他機械性能也達(dá)到較佳效果.
