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氟改性納米TiO2的制備及其光催化降解甲基橙機(jī)理

編號(hào):NMJS01407

篇名:氟改性納米TiO2的制備及其光催化降解甲基橙機(jī)理

作者:蔣晶晶; 龍明策; 吳德勇; 蔡偉民;

關(guān)鍵詞:氟改性; 二氧化鈦; 回流; 可見(jiàn)光活性; 染料敏化;

機(jī)構(gòu): 上海交通大學(xué)環(huán)境科學(xué)與工程學(xué)院;

摘要: 采用簡(jiǎn)易的沉淀-氟化-回流晶化法在低溫下制備了氟改性納米TiO2(F-TiO2),并通過(guò)透射電鏡(TEM),X射線(xiàn)衍射(XRD),傅里葉變換紅外(FTIR)光譜,X射線(xiàn)光電子能譜(XPS)和漫反射光譜(DRS)等表征手段研究了粉末的形貌、晶型、元素形態(tài)和光吸收性質(zhì).結(jié)果表明:實(shí)驗(yàn)制得的F-TiO2為橢圓形納米顆粒,粒徑為5-8nm;氟離子能夠有效抑制板鈦礦相TiO2的生成,并同時(shí)提高銳鈦礦相TiO2的晶化度;修飾的氟主要分布在TiO2表面,以化學(xué)吸附態(tài)為主,并伴有少量的間隙氟.光催化降解甲基橙的實(shí)驗(yàn)表明,氟離子改性的TiO2同時(shí)具有較高的全譜和可見(jiàn)光催化活性.通過(guò)堿洗和焙燒的對(duì)照實(shí)驗(yàn)分析可知,F-TiO2在可見(jiàn)光下降解甲基橙的機(jī)理是源于一種由TiO2表面吸附氟和間隙氟共同增強(qiáng)的染料敏化降解作用. 更多還原

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