編號：NMJS01699
篇名：直流熱陰極PCVD法摻氮納米金剛石薄膜形貌及結(jié)構(gòu)的影響
作者：王明磊； 彭鴻雁； 尹龍承； 祁文濤； 姜宏偉；
關(guān)鍵詞：直流熱陰極； PCVD； 納米金剛石膜； 摻氮；
機(jī)構(gòu)： 牡丹江師范學(xué)院新型碳基功能與超硬材料黑龍江省重點實驗室；
摘要： 采用直流熱陰極等離子體化學(xué)氣相沉積(PCVD)技術(shù),通過在CH4/H2的混合反應(yīng)氣源中通入不同流量的N2,合成了摻氮納米金剛石薄膜。結(jié)果表明隨著氮氣流量的增加,金剛石薄膜表面形貌發(fā)生明顯變化:晶粒細(xì)化,晶界和缺陷有所增多,膜層由尺寸較大微晶顆粒轉(zhuǎn)向納米級菜花狀結(jié)構(gòu),并且薄膜表面粗糙度相應(yīng)變小。同時薄膜中非金剛石組份相對逐漸增多。氮氣的引入可以促進(jìn)金剛石二次形核,抑制金剛石大顆粒生長,對薄膜的生長取向、形貌及結(jié)構(gòu)都產(chǎn)生一定影響。
