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雙槽電沉積法制備Cu/Ag納米多層膜制備及研究

編號:NMJS01798

篇名:雙槽電沉積法制備Cu/Ag納米多層膜制備及研究

作者:顧超; 朱宏喜; 任鳳章; 王姍姍; 肖麗麗;

關鍵詞:Cu/Ag多層膜; 雙槽電沉積法; 顯微組織; 顯微硬度;

機構: 河南科技大學材料科學與工程學院; 河南省有色金屬材料科學與加工技術重點實驗室;

摘要: 雙槽電沉積法制備了不同調制波長的Cu/Ag金屬多層膜(Cu膜和Ag膜等厚),用掃描電子顯微鏡觀察了多層膜的層狀結構,并研究了不同調制波長下多層膜的顯微硬度變化。結果表明:雙槽電沉積法制備的Cu/Ag多層膜層狀結構明顯。當調制波長大于100 nm時,顯微硬度隨調制波長減小而增加;當小于100 nm時,硬度隨調制波長減小而降低;調制波長為100 nm時,顯微硬度取得最大值,為150HV。

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