編號(hào)：NMJS01858
篇名：納米Ag/PMMA復(fù)合薄膜的原位法制備及性能研究
作者：張曉光； 羅國強(qiáng)； 熊遠(yuǎn)祿； 李美娟； 沈強(qiáng)； 張聯(lián)盟；
關(guān)鍵詞：納米銀； PMMA； 原位法； 復(fù)合薄膜； 光學(xué)吸收；
機(jī)構(gòu)： 武漢理工大學(xué)材料復(fù)合新技術(shù)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室；
摘要： 采用原位法,以二甲基甲酰胺(DMF)為還原劑和溶劑,制備納米Ag/PMMA復(fù)合薄膜。采用XRD、TEM、FT-IR、UV-Vis表征了納米Ag/PMMA復(fù)合薄膜物相,納米銀的顆粒形貌,分析了納米銀與基體PMMA之間的相互作用機(jī)理,并對(duì)溶膠和薄膜的光學(xué)特性進(jìn)行表征。結(jié)果表明,反應(yīng)生成的為面心立方銀單質(zhì),并且隨著反應(yīng)時(shí)間的增加,納米銀顆粒粒徑增大,并且顆粒由球形顆粒逐漸生長為三角板型顆粒;納米銀顆粒在基體PMMA中分布均勻,納米銀顆粒與基體PMMA之間的作用為弱化學(xué)作用,這種作用導(dǎo)致納米銀顆粒的均勻、穩(wěn)定分布;薄膜的光學(xué)性能測(cè)試表明了,納米Ag/PMMA復(fù)合薄膜由于納米銀顆粒的表面等立體共振在紫外-可見光區(qū)有明顯的吸收帶。
