編號：NMJS02105
篇名：碳納米管鉛錫復(fù)合減摩鍍層的內(nèi)應(yīng)力研究
作者：胡正西； 揭曉華； 盧國輝；
關(guān)鍵詞：復(fù)合電沉積； 碳納米管； 內(nèi)應(yīng)力；
機(jī)構(gòu)： 廣東工業(yè)大學(xué)材料與能源學(xué)院；
摘要： 采用復(fù)合電沉積方法在紫銅片上制備碳納米管鉛錫合金復(fù)合減摩鍍層;用陰極彎曲法研究了電流密度和鍍液溫度對碳納米管鉛錫復(fù)合鍍層內(nèi)應(yīng)力的影響;在不同碳納米管濃度的鍍液中制備了復(fù)合鍍層的試樣,用X射線衍射法測定了各復(fù)合鍍層的內(nèi)應(yīng)力。結(jié)果表明,碳納米管鉛錫合金復(fù)合鍍層的內(nèi)應(yīng)力隨電流密度的增加而升高,但隨鍍液溫度的升高而降低。保證電流密度和鍍液溫度不變,碳納米管的含量為2 g/L,復(fù)合鍍層的內(nèi)應(yīng)力降至最低;碳納米管在鍍層中的彌散分布起到了應(yīng)力傳遞作用,減少了應(yīng)力集中而產(chǎn)生的微裂紋。
