編號：NMJS02158
篇名：利用小角X射線散射技術(shù)研究組分對聚酰亞胺/Al_2O_3雜化薄膜界面特性與分形特征的影響
作者：劉曉旭； 殷景華； 程偉東； 卜文斌； 范勇； 吳忠華；
關(guān)鍵詞：小角X射線散射； 納米雜化； 聚酰亞胺； 界面；
機構(gòu)： 哈爾濱理工大學(xué)應(yīng)用科學(xué)學(xué)院； 黑龍江科技學(xué)院實訓(xùn)中心； 工程電介質(zhì)及其應(yīng)用技術(shù)教育部重點實驗室； 中國科學(xué)院高能物理研究所同步輻射室；
摘要： 采用溶膠-凝膠方法制備無機納米雜化聚酰亞胺(PI),應(yīng)用同步輻射小角X射線散射(SAXS)方法研究不同組分雜化PI薄膜的界面特性與分形特征.研究結(jié)果表明散射曲線不遵守Porod定理,形成負偏離,說明薄膜中有機相與Al2O3納米顆粒間存在界面層,界面層厚度在0.54nm到1.48nm范圍內(nèi);隨無機納米組分增加,界面層厚度增加,有機相與無機相作用變強;無機納米顆粒同時具有質(zhì)量分形和表面分形特征,其分布、集結(jié)是一種非線性動力學(xué)過程;隨組分增加,其質(zhì)量分形維數(shù)降低,表面分形維數(shù)升高,即納米顆粒結(jié)構(gòu)變疏松、質(zhì)量分布變得不均勻,有機高分子鏈對無機納米顆粒錨定作用加強且錨點數(shù)增加,表面變得更加粗糙.最后,利用逾滲理論與介質(zhì)的電極化理論,結(jié)合雜化PI界面特性,解析了組分對雜化薄膜擊穿場強的影響.
