編號：NMJS02266
篇名：應(yīng)用于場致發(fā)射的摻雜納米金剛石膜的研究
作者：陳冠虎； 汪建華； 熊禮威； 翁俊； 王文君；
關(guān)鍵詞：場致發(fā)射； 納米金剛石薄膜； 摻雜；
機(jī)構(gòu)： 武漢工程大學(xué)材料與工程學(xué)院湖北省等離子體化學(xué)與新材料重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室；
摘要： 場致發(fā)射是一種新型顯示技術(shù),具有良好應(yīng)用前景,場發(fā)射顯示器的核心內(nèi)容是場發(fā)射陰極材料,納米金剛石由于低表面粗糙度、低場發(fā)射強(qiáng)度、高發(fā)射電流密度、大比表面積、網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)以及高密度懸掛鍵等優(yōu)秀電化學(xué)性能成為場發(fā)射的理想陰極材料。本文闡述了化學(xué)氣相沉積法制備納米金剛石薄膜的沉積裝置、預(yù)處理和工藝參數(shù),并介紹了金剛石摻雜機(jī)理和摻入元素的研究現(xiàn)狀。
