編號：NMJS02436
篇名：靶基距對射頻磁控濺射法制備氟碳膜的結(jié)構(gòu)與性能影響
作者：劉增機(jī)； 紀(jì)全； 張浴暉； 夏延致； 王鳳軍；
關(guān)鍵詞：射頻磁控濺射； 靶基距； AFM； XPS； 接觸角；
機(jī)構(gòu)： 青島大學(xué)化工學(xué)院； 青島大學(xué)纖維新材料與現(xiàn)代紡織國家重點實驗室培育基地；
摘要： 采用射頻磁控濺射法,以聚四氟乙烯(PT-FE)為靶,氬氣為載氣,在再生纖維素基底上制備了氟碳膜。用原子力顯微鏡(AFM)、X射線光電子能譜(XPS)和靜態(tài)接觸角測試儀對氟碳膜的表面形貌、表面結(jié)構(gòu)和表面性能進(jìn)行了研究。結(jié)果表明,該法制得的氟碳膜是由納米粒子組成的島狀結(jié)構(gòu),島的表面起伏不平。這種氟碳膜由—CF3、—CF2—、—CF—和—C—4個組分構(gòu)成,靶基距從30mm增加到80mm時,氟碳膜的F/C從0.551減小到0.427,呈逐漸減小的趨勢。隨著靶基距的增大,接觸角從107°逐漸減小到75°,減小靶基距有利于提高氟碳膜的疏水性能。
