編號：NMJS02597
篇名：基底對硅納米線熱導(dǎo)率影響的分子動力學(xué)模擬
作者：王建強； 魏志勇； 畢可東； 陳敏華； 陳云飛；
關(guān)鍵詞：切向熱導(dǎo)率； 納米線； 基底； 分子動力學(xué)；
機構(gòu)： 東南大學(xué)機械工程學(xué)院； 東南大學(xué)江蘇省微納生物醫(yī)療器械設(shè)計與制造重點實驗室； 東南大學(xué)MEMS教育部重點實驗室；
摘要： 采用非平衡態(tài)分子動力學(xué)模擬的方法研究了硅納米線平放在基底上的軸向熱導(dǎo)率,結(jié)果表明基底的存在降低了納米線的熱導(dǎo)率,且隨著溫度的升高,熱導(dǎo)率逐漸降低。通過改變納米線與基底之間的范德華作用力強度,研究了基底約束對硅納米線熱導(dǎo)率的影響,結(jié)果表明,隨著作用力強度的增加,納米線熱導(dǎo)率逐漸減小。模擬結(jié)果還顯示,基底維數(shù)的降低能夠進一步減小硅納米線的熱導(dǎo)率。
