編號：FTJS02920
篇名：高純鋁片拋光工藝及對氧化鋁模板的影響
作者：楊蓉； 丁建寧； 丁古巧； 袁寧一；
關(guān)鍵詞：電化學(xué)拋光； 多孔陽極氧化鋁模板； 表面平整度；
機(jī)構(gòu)： 常州大學(xué)低維材料微納器件與系統(tǒng)研究中心； 江蘇省新能源材料與技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗室；
摘要： 在多孔陽極氧化鋁(Porous anodic alumina,PAA)制備過程中,為了得到更穩(wěn)定的電解過程,實(shí)現(xiàn)高度有序的納米孔陣列結(jié)構(gòu),對高純鋁片表面進(jìn)行拋光是一個典型的、必要的步驟。為此系統(tǒng)研究了高氯酸/乙醇拋光液體系在不同電壓(1,5,10,20V和25V)和不同時間(10,60s和180s)下的拋光工藝,以及拋光對高純鋁片表面以及PAA的影響,獲得用于制備PAA模板較合適的拋光工藝,即拋光電壓為10V,拋光時間為180s。
