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NiAl(110)和Cu-Al(111)合金表面生長超薄氧化鋁膜的疇界和厚度的STM研究

編號:FTJS02984

篇名:NiAl(110)和Cu-Al(111)合金表面生長超薄氧化鋁膜的疇界和厚度的STM研究

作者:張?jiān)疲?于迎輝; 吳萍; 秦志輝; 曹更玉;

關(guān)鍵詞:超薄氧化鋁膜; 超高真空掃描隧道顯微術(shù); 疇界; 厚度;

機(jī)構(gòu): 中國科學(xué)院武漢物理與數(shù)學(xué)研究所波譜與原子分子物理國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室; 中國科學(xué)院研究生院;

摘要: 利用低溫超高真空掃描隧道顯微術(shù)研究了在NiAl(110)和Cu-Al(111)合金襯底上氧化生長的超薄氧化鋁膜的疇界和厚度。在這兩種氧化鋁薄膜上均觀察到兩種不同類型的疇界:反相疇界(antiphase domain boundary)和反射疇界(reflection domain boundary)。結(jié)果顯示Cu-Al(111)表面上的氧化鋁薄膜的反相疇界數(shù)目相對較少;在NiAl(110)表面形成了雙層氧化鋁薄膜,而在Cu-Al(111)表面形成的是單層的氧化鋁薄膜;厚度差異與襯底表面鋁的含量及生長條件有關(guān)。

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