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無(wú)阻擋層模板法直流電沉積稀土單質(zhì)Nd納米線陣列(英文)

編號(hào):NMJS03112

篇名:無(wú)阻擋層模板法直流電沉積稀土單質(zhì)Nd納米線陣列(英文)

作者:龔曉鐘; 湯皎寧; 徐松志; 田鵬;

關(guān)鍵詞:金屬材料; 納米線; 稀土單質(zhì)釹; 非水體系; 電沉積; 阻擋層; 氧化鋁模板;

機(jī)構(gòu): 深圳大學(xué);

摘要: 在草酸電解液中用二次陽(yáng)極氧化法制備多孔陽(yáng)極化氧化鋁(PAA)模板。通過(guò)對(duì)各種工藝參數(shù)(如電流密度、氧化時(shí)間、電解液濃度等)的調(diào)整,最終獲得孔洞分布均勻、孔徑基本一致、孔口呈六邊形的PAA模板。同時(shí)在不剝離膜的情況下去除阻擋層,使原殘留的鋁成為基底,起電極作用。在非水體系中,用模板直流電沉積成功地制備了稀土單質(zhì)Nd納米線。經(jīng)過(guò)SEM觀測(cè),PAA模板孔徑在60nm左右,去阻擋層前后變化不大,制備的Nd納米線排列有序,尺寸一致;EDS測(cè)定表明納米線為單質(zhì)Nd及少量Nd2O3納米線,單質(zhì)Nd含量為92.73wt%;XRD分析圖譜顯示所得到的單質(zhì)Nd及Nd2O3納米線都為六方結(jié)構(gòu)。

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