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鎳間隙摻雜硅納米線電子結構的研究

編號:NMJS03132

篇名:鎳間隙摻雜硅納米線電子結構的研究

作者:梁偉華; 王秀麗; 丁學成; 褚立志; 鄧澤超; 郭建新; 傅廣生; 王英龍;

關鍵詞:硅納米線; 摻雜; 電子性質; 第一性原理;

機構: 河北大學物理科學與技術學院;

摘要: 采用基于密度泛函理論的第一性原理的方法,對[100]方向鎳間隙摻雜硅納米線結構的穩(wěn)定性和電子性質進行了計算。計算結果表明Ni原子更喜歡占據(jù)硅納米線內部六角形間隙位置;摻雜體系費米能級附近的電子態(tài)密度來源于Ni3d態(tài)電子的貢獻;同時發(fā)現(xiàn)不同構型的Ni摻雜硅納米線,其帶隙不同,且與未摻雜硅納米線相比,帶隙普遍減小。

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