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表面修飾層厚度對Fe:ZnSe納米晶光學(xué)性能的影響

編號:NMJS03163

篇名:表面修飾層厚度對Fe:ZnSe納米晶光學(xué)性能的影響

作者:謝瑞士; 劉凌云; 李園利; 肖定全; 朱建國;

關(guān)鍵詞:Fe:ZnSe; 納米晶; 無機(jī)表面修飾; 光學(xué)性能;

機(jī)構(gòu): 四川大學(xué);

摘要: 利用硫代乙醇酸作為穩(wěn)定劑在水相中合成了Fe:ZnSe/ZnS核/殼結(jié)構(gòu)半導(dǎo)體納米晶,研究了表面修飾層(殼層)厚度對產(chǎn)物光學(xué)性能的影響。XRD和UV-Vis吸收譜表明,合成的半導(dǎo)體納米晶為核殼納米晶,呈立方閃鋅礦結(jié)構(gòu)。TEM結(jié)果表明,產(chǎn)物分散性較好,尺寸均一,呈球形。PL結(jié)果表明,適當(dāng)厚度的ZnS殼層能有效鈍化Fe:ZnSe納米晶表面的非輻射復(fù)合位點,當(dāng)殼層過厚時,ZnS殼層產(chǎn)生的非輻射復(fù)合缺陷會導(dǎo)致PL強(qiáng)度下降。

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