參考價格
10-20萬元型號
HL8001品牌
海鑫瑞產(chǎn)地
北京樣本
暫無誤差率:
±0.5%分辨率:
0.001重現(xiàn)性:
±0.5%儀器原理:
圖像分析分散方式:
濕法測量時間:
1min測量范圍:
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顯微法zeta電位分析儀
一:產(chǎn)品介紹
HL8001系列顯微電泳儀可用于測定分散體系顆粒物的固-液界面電性(ζ電位),也可用于測量乳狀液液滴的界面電性,也可用于測定等電點、研究界面反應過程的機理。通過測定顆粒的Zeta電位,求出等電點,是認識顆粒表面電性的重要方法,在顆粒表面處理中也是重要的手段。
二:基本參數(shù)
㈠采用顯微電泳法,符合GB/T 32668-2016《膠體顆粒zeta電位分析 電泳法通則》。
㈡功耗:<150W。
㈢電源電壓:220V 50Hz。
㈣適用環(huán)境:防震平臺,適用溫度范圍:室溫到35℃,讀取精度0.1。
㈤測數(shù)準確度:系統(tǒng)誤差在5%以內。
㈥顆粒范圍:適用于0.5~20μm的水性分散體系,日本進口高級變焦系統(tǒng)。
㈦pH范圍:一般應用在下2.0~12.0,亦可在1.6~13.0范圍內使用,步長0.1。
㈧光學鏡:連續(xù)變倍系統(tǒng)即可變焦光學系統(tǒng),適用于更寬范圍顆粒的測量。
㈨杯型開放式電泳裝置,配套特制電極支架。
㈩可測量分散體系zeta電位和等電點。
三:規(guī)格型號
HL8001系列顯微電泳儀(zeta電位儀)主要型號(表1) | ||||
型號 | 適用體系 | 粒徑范圍 | 顯微光學系統(tǒng) | 分辨率 |
HL8001 | 水性體系 | 0.5~20 | 高倍顯微光學系統(tǒng) | 4pixel/μm |
HL8001-1 | 水性體系和有機體系 | 0.5~20 | 高倍顯微光學系統(tǒng) | 4pixel/μm |
HL8001-2 | 水性體系 | 0.1~10 | 日本W(wǎng)KD高倍顯微光學系統(tǒng) | 12pixel/μm |
HL8001-3 | 水性體系和有機體系 | 0.1~10 | 日本W(wǎng)KD高倍顯微光學系統(tǒng) | 12pixel/μm |
HL8001-4 | 水性體系 | 0.2~50 | 日本連續(xù)變倍光學系統(tǒng) 適用于更寬范圍顆粒的測量 | 8pixel/μm |
HL8001-5 | 水性體系和有機體系 | 0.2~50 | 日本連續(xù)變倍光學系 統(tǒng)適用于更寬范圍顆粒的測量 | 8pixel/μm |
六種類型和型號,根據(jù)樣品的特殊性來選擇合適的型號
更多關于顯微電泳儀資料、產(chǎn)品介紹、軟件、說明書請咨詢售前,如下只展示部分產(chǎn)品參數(shù)
四:儀器特點
⑴顯微電泳儀HL8001系列產(chǎn)品采用新設計的新型簡便的電泳池,采用0.5cm 厚的玻璃杯,電極內置在池內。每次僅 0.5ml,易于清洗,使用方便,經(jīng)濟實用。
⑵采用經(jīng)過精心設計的電極支架,與電泳杯緊密配合,形成一個杯形開放式電泳裝置,電極采用銀、鉑和鈦金屬絲制成,經(jīng)表面處理后工作狀態(tài)穩(wěn)定。
⑶制作精良的米字標,置入電泳杯后放在三維平臺上,調整三維平臺,在計算機屏幕看到清晰的米字圖像,便找到測定位置,沒有靜止層問題。
⑷該電泳儀采用半導體發(fā)光近場光學系統(tǒng),功率僅幾十微瓦,不會因發(fā)熱而影響測量環(huán)境和測量精度,并調整了光學系統(tǒng),加大了放大倍率,采用波長較短的藍光和綠光,因此可以看清更小的顆粒。
⑸采用恒壓低頻轉換電源, 可以防止極化,同時又可大大提高測量速度。正負換向時間為0.30秒至1.20秒連續(xù)可調,采樣時間僅需 3~10秒。電極間電壓可根據(jù)需要調節(jié)。
⑹采用溫度采樣探頭, 自動連續(xù)對環(huán)境溫度進行采樣, 返回計算機,自動調整參數(shù),用于計算Zeta電位。采用計算機多媒體技術, 在給定的節(jié)拍下, 自動對經(jīng)放大1200倍的超細顆粒連續(xù)“拍照”,提供雙向共四幅灰度圖像進行分析計算。
五:標配組件
1、USB制式數(shù)字CCD 1個
2、銀電極 1個
3、鉑電極 1個
4、電泳杯 10個
5、米字標 1個
6、應用軟件 1份
7、說明書 1份
8、操作手冊電子版 1個
9、預裝應用程序和驅動程序的數(shù)據(jù)采集分析處理操作終端 1臺
HL8001系列顯微電泳儀可用于測定分散體系顆粒物的固-液界面電性(ζ電位),也可用于測量乳狀液液滴的界面電性,也可用于測定等電點、研究界面反應過程的機理。通過測定顆粒的Zeta電位,求出等電點,是認識顆粒表面電性的重要方法,在顆粒表面處理中也是重要的手段。
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