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CX40M系統(tǒng)三目正置金相顯微鏡
CX40M作為改良型金相顯微鏡，整合了我司銷量機(jī)型 XYM、MX4R 及Z新研發(fā)的RX50M研究級金相顯微鏡的多項技術(shù)優(yōu)勢，并根據(jù)市場需求重新優(yōu)化配置整體性能。CX40M以優(yōu)異的成像性能、舒適的操作體驗，為客戶提供高性價比的金相分析及工業(yè)檢測解決方案。
中大型正置金相顯微鏡，提供優(yōu)越的圖像質(zhì)量和穩(wěn)固可靠的機(jī)械結(jié)構(gòu)。
| ●采用新生兒睡床Z佳舒適角度（30°）的觀察筒，能夠緩解用戶在長時間工作狀態(tài) 下的緊張與疲勞，保證Z佳觀察狀態(tài)。觀察筒上的刻度，方便用戶自行調(diào)節(jié)Z佳 瞳距范圍。 ●落射照明器采用柯拉照明系統(tǒng)，帶視場光闌、孔徑光闌和斜照明裝置；預(yù)設(shè)起偏 鏡、檢偏鏡與濾*片插槽。 ●單顆 5W LED暖白光照明（3000-3300K），與同類LED照明相比，能Z大程度降 低觀察者的視覺疲勞。 ●視場光闌與孔徑光闌采用拉桿裝置，中心可調(diào) , 能靈活調(diào)節(jié)照明范圍的大小， ●起偏鏡與檢偏鏡可實現(xiàn)簡易偏光觀察，您也可根據(jù)需求，選擇不同顏*的濾光片 ●透反射機(jī)架可放置樣品高達(dá)28mm，反射機(jī)架通過旋轉(zhuǎn)右圖相同位置“□”螺釘， ●M4直柄內(nèi)六角扳手隨機(jī)存放，充分利用了機(jī)身的可用空間，觸手可及的工具使您 的操作更加便捷。 ●隨機(jī)限位裝置，可有效防止樣品與物鏡碰觸，避免損傷。 ●采用 RX50M 優(yōu)秀的聚光系統(tǒng)，數(shù)值孔徑更大，亮度更高，大幅提升透射光通過 率。 |
技術(shù)規(guī)格：
光學(xué)系統(tǒng)：無限遠(yuǎn)*差校正光學(xué)系統(tǒng)
觀 察 筒：30°傾斜，無限遠(yuǎn)鉸鏈三通觀察筒，瞳距調(diào)節(jié)：54mm~75mm，視度調(diào)節(jié)：±5屈光度，兩檔分光比R:T=100：0或50：50
目 鏡：高眼點大視野平場目鏡PL10X/22mm
無限遠(yuǎn)平場消*差物鏡：LMPL 5X /0.15 WD10.8mm
LMPL 10X/0.30 WD12.2mm
LMPL 20X/0.45 WD4.00mm
LMPL 50X/0.55 WD7.9mm
轉(zhuǎn) 換 器：內(nèi)定位五孔轉(zhuǎn)換器
調(diào)焦機(jī)構(gòu) ：反射機(jī)架，低手位粗微同軸調(diào)焦機(jī)構(gòu)，粗調(diào)行程28mm，微調(diào)精度0.002mm。
帶有防止下滑的調(diào)節(jié)松緊裝置和隨機(jī)上限位裝置。帶平臺位置上下調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，Z大樣品高度78mm,
載 物 臺： 雙層機(jī)械移動平臺，低手位X、Y方向同軸調(diào)節(jié)；平臺面積175X145mm，移動范圍：76X42mm可配透反兩用玻璃載物臺板
上照明系統(tǒng) ：自適應(yīng)寬電壓100V-240V_AC50/60Hz，反射燈室，單顆大功率5WLED，暖*，柯拉照明，帶視場光闌與孔徑光闌，
中心可調(diào)，帶斜照明裝置
選配件：
目 鏡：高眼點大視野平場目鏡PL10X/22mm（視度可調(diào)、帶測微尺）
高眼點大視野平場目鏡PL15X/16mm
物 鏡：LMPL 100X/0.80 WD2.1mm
透反射機(jī)型：透反兩用機(jī)架，低手位粗微同軸調(diào)焦機(jī)構(gòu)，粗調(diào)行程28mm，微調(diào)精度0.002mm。
帶有防止下滑的調(diào)節(jié)松緊裝置和隨機(jī)上限位裝置。帶平臺位置上下調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，Z大樣品高度28mm,
下照明系統(tǒng)： 自適應(yīng)寬電壓100V-240V_AC50/60Hz，透射燈室，單顆大功率5WLED，暖*（適用于透射）
聚 光 鏡 ：透射用搖出式消*差聚光鏡（N.A0.9），帶可變孔徑光闌，中心可調(diào)
濾 光 片 ：黃、IF550濾光片、LBD濾光片、中性濾光片
軟件配套 ：FMIA2020正版金相分析軟件
*像裝置 ：索尼芯片相機(jī)（500萬、630萬、1200萬、1600萬等）
適配鏡接口：0.5X
測微尺：高精度測微尺（格值0.01mm）
CX-40M貼心的各項附件，滿足您工業(yè)檢測中多樣化的個性需求。
優(yōu)越的圖像質(zhì)量與穩(wěn)固的操作系統(tǒng)，操作簡便
在使用米淇實驗室行星球磨機(jī)研磨樣品時，由于研磨球在高能碰撞和擠壓，球磨罐壁和研磨球上常常會留有難以被清除的樣品殘留，納米粉更容易出現(xiàn)滲透至罐體表層，使用一般的清洗方法是很難將其清理干凈的。如何
2020-12-26
為了正確清潔和保養(yǎng)壓片機(jī)以維持其高效運(yùn)行，可以按照以下步驟進(jìn)行：一、清潔步驟斷電與準(zhǔn)備：在進(jìn)行任何清潔工作之前，務(wù)必關(guān)閉壓片機(jī)電源，并將其從電源插座中拔出，以確保安全。外部清潔：使用濕布或海綿輕輕擦拭
2024-09-21
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2024-09-23
精準(zhǔn)粒度控制是行星球磨機(jī)在材料研磨領(lǐng)域中的一項關(guān)鍵技術(shù)，它要求設(shè)備能夠根據(jù)具體需求，將材料研磨至特定目數(shù)或粒度范圍。為了實現(xiàn)這一目標(biāo)，行星球磨機(jī)定制化研磨方案顯得尤為重要。以下是對行星球磨機(jī)定制化研磨
2024-09-23
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科技創(chuàng)新是社會生產(chǎn)力發(fā)展的源泉，是一個國家興旺發(fā)達(dá)的不竭動力。8月14日上午我司在2024年“望城杯”創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)大賽暨湖南省中小微企業(yè)創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)大賽望城區(qū)決賽中，憑借過硬的創(chuàng)新技術(shù)和發(fā)展?jié)摿Γ?/p>
臺式壓片機(jī)的制片過程臺式壓片機(jī)是實驗室等一系列場所必不可少的一種設(shè)備，那么它的制片工作的過程是怎樣的呢？下面就讓米淇來給大家介紹一下臺式壓片機(jī)的制片過程。一、劑量的控制(成品體積規(guī)格的控制)各種片劑有
實驗電爐安裝中的若干細(xì)節(jié)問題實驗電爐在工業(yè)生產(chǎn)中和平時做實驗時都需要留心許多疑問，因為實驗電爐在運(yùn)行過程中有一定的危險性，許多細(xì)節(jié)要留心以確保試驗的安全進(jìn)行。試驗線路在運(yùn)行前應(yīng)留心許多問題，尤其是對于
土壤瑪瑙研磨機(jī)購買行星球磨機(jī)時，售后服務(wù)是至關(guān)重要的考慮因素之一。以下是一些需要注意的售后服務(wù)內(nèi)容：一、安裝與調(diào)試專業(yè)技術(shù)人員現(xiàn)場安裝：確保設(shè)備基礎(chǔ)符合設(shè)計要求，避免因基礎(chǔ)問題導(dǎo)致設(shè)備運(yùn)行不穩(wěn)定。設(shè)備
行星球磨機(jī)的維護(hù)保養(yǎng)是確保其穩(wěn)定運(yùn)行、延長使用壽命和提高生產(chǎn)效率的重要環(huán)節(jié)。以下是一些具體的維護(hù)保養(yǎng)建議：一、日常清潔每次使用后，應(yīng)立即清洗球磨罐和球體，避免粉料殘留。使用清潔劑進(jìn)行清洗，確保設(shè)備內(nèi)外
BQM行星球磨機(jī)【迷你小巧】行星球磨機(jī)既可以進(jìn)行干磨，也可以進(jìn)行濕磨。行星球磨機(jī)屬于一種用于高精度研磨、混合、分散和合成的實驗室級磨床，常用于制備粉體樣品或催化劑等。其利用行星公轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn)的原理，通過設(shè)
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