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PicoMaster 100 無掩模激光直寫光刻機
●250納米分辨率(375納米激光源)
●300納米分辨率(405納米激光源)
●4095灰階
●業(yè)界**實力的成套全息設(shè)計軟件
●**125x125毫米基板尺寸
PicoMaster 100 采用波長405納米二極管激光器,它擁有市場上*小的300納米激光分辨率。升級375納米激光源,可以更好地兼容市面上I-line光刻膠材,從而滿足更高級別的應(yīng)用需求。備用光學(xué)模塊,將大大的降低機器停機時間。更為人性化的軟件設(shè)計,大大提升了用戶實際操作效率,它將是您科學(xué)研究、實驗開發(fā)、設(shè)計創(chuàng)新,理想的光學(xué)伙伴。PicoMaster 100廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻, LED芯片,微流控芯片,微納結(jié)構(gòu),灰度光刻,三維加工,全息影像等多個領(lǐng)域。
PicoMaster 100 無掩模激光直寫系統(tǒng)性能規(guī)格
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