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一、概述
SE-m 是一款針對半導(dǎo)體行業(yè)定制的微區(qū)圖形結(jié)構(gòu)測量的專用型光譜橢偏儀，其采用行業(yè)**橢偏創(chuàng)新技術(shù)，自主獨立研發(fā)出行業(yè)** 1 超小微光斑探測測量技術(shù)，2 定制超快測量速度，等**技術(shù)?？蓱?yīng)用透明各類襯底上的減反膜、導(dǎo)電膜等薄膜的n/k/d測量，**適用于微區(qū)圖形的各種光學(xué)參數(shù)解析。
二、特色功能
■ 可定制光斑尺寸，*小可達(dá)30um；
■ 超快測量，單次測量時間小于0.5秒 ；
■ 系列配置靈活，支持功能定制設(shè)計；
■ 結(jié)構(gòu)緊湊，更適應(yīng)在線集成測量.
三、測量實例
微區(qū)圖形結(jié)構(gòu)測量
四、應(yīng)用場景
應(yīng)用于光學(xué)常數(shù)測量，**適用于各類光學(xué)薄膜等鍍膜檢測應(yīng)用。
暫無數(shù)據(jù)！
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