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氧化亞硅真空蒸餾爐品牌
湖南烯瑞產(chǎn)地
湖南樣本
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氧化亞硅真空蒸餾爐
設(shè)備用途：
氧化亞硅氣相沉積包覆爐，是利用真空蒸鍍法將粉碎后的所得元素摻雜金屬硅與二氧化硅通過真空蒸鍍工藝，制得元素摻雜氧化亞硅。
設(shè)備特點：
1、本公司自行設(shè)計生產(chǎn)的氧化亞硅氣相沉積包覆爐有兩種加熱方式（感應(yīng)加熱、電阻加熱和中頻感應(yīng)加熱），內(nèi)部各溫區(qū)溫差 在±5℃以內(nèi)，能有效保證物料在內(nèi)腔內(nèi)的反應(yīng)溫度均勻。加熱端溫度≤1400℃，收集區(qū)溫度≤900℃。能充分滿足客戶用于氧化亞硅等可氣相沉積材料的燒結(jié)工藝。
2、設(shè)備采用熱電偶接觸式測溫控溫精度高，高溫真空度好，物料收集率高，具備物料烘干、燒結(jié)、收集于一體等特點，其物料反應(yīng)充分、收集率高等特點。
3、真空采用三級真空機組，油擴散泵+羅茨泵+機械泵+真空閥門，以及我公司自行生產(chǎn)設(shè)計的真空過濾系統(tǒng)組成，具有真空度高，設(shè)備能在高溫、高真空環(huán)境中長期使用。
產(chǎn)品介紹：
爐型結(jié)構(gòu) | 臥式 | ||
恒溫區(qū)尺寸（mm）（可按客戶需求定制） | 7500mm*600mm | 600mm*800mm | 700mm*1000mm |
爐體 | 由內(nèi)外雙層水冷結(jié)構(gòu)，與冷卻水接觸部分采用 304 不銹鋼制作，有效防止爐體長時間使用漏氣現(xiàn)象 | ||
升華系統(tǒng) | 由加熱區(qū)和收集區(qū)組成，加熱區(qū)由感應(yīng)線圈、重質(zhì)剛玉、石墨硬鉆、等靜壓石墨組成，收集區(qū)由 310S不銹鋼及保溫層組成 | ||
溫控系統(tǒng)） | 采用 PLC觸屏集中控制方式，自動化控制，帶網(wǎng)口，可實現(xiàn)遠程控制 | ||
加熱系統(tǒng) | 采用感應(yīng)加熱，電源采用GBT 節(jié)能型電源，噪音小，比傳統(tǒng)晶聞管電源節(jié)能 15%左右 | ||
真空系統(tǒng) | 由多級真空泵、真空閥，壓力控制器及管路組成 | ||
冷卻系統(tǒng) | 配置閉式冷卻系統(tǒng)，內(nèi)循環(huán)用去離子水，不會造成設(shè)備管路結(jié)垢，內(nèi)循環(huán)水損失小，外循環(huán)用自來水自動補水，風(fēng)機自啟動散熱，散熱效果好，集成環(huán)保，占地面積小等特點 | ||
設(shè)備由升華系統(tǒng)、收集系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、機械系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)組成 | |||
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