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氧傳感器芯片簡(jiǎn)介
優(yōu)質(zhì)平板型芯片，采用先進(jìn)的陶瓷體技術(shù)，使產(chǎn)品運(yùn)行達(dá)到工作溫度的速度是傳統(tǒng)指型的兩倍；因此嚴(yán)酷的冷啟動(dòng)階段的廢氣排放可減少一半；配有綜合加熱器的多層傳感元件能在長(zhǎng)期使用后依舊保持精準(zhǔn)的性能。
氧傳感器芯片產(chǎn)品特性
| · 更快的啟動(dòng)時(shí)間 | · 良好的抗老化性能 |
| · 低加熱功率 | · 抗涂層型和抗毒性 |
| · 開車的成本低 | · 結(jié)構(gòu)緊湊(振動(dòng)高) |
| · 降低對(duì)排氣溫度的依賴 | · 更長(zhǎng)的壽命 |
| · 雙重保護(hù)管頭，防止各種沖擊 | |
氧傳感器芯片技術(shù)參數(shù)
| 測(cè)量范圍 | 0.98～1.02 |
| 工作溫度 | -40℃～1000℃ |
| 環(huán)境溫度 | -40℃～105℃ |
| 標(biāo)準(zhǔn)供電電壓 | 12V |
氧傳感器芯片應(yīng)用領(lǐng)域
氧氣傳感器
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方案概述合作背景2023年5月，歐盟委員會(huì)發(fā)布了《歐盟排放交易體系（EUETS）指令》（EU2023/959）和《歐盟MRV法規(guī)》（EU2023/957）的最終修訂文本。從2025年開始在歐洲領(lǐng)海運(yùn)營(yíng)
2025-03-24
項(xiàng)目背景SCR（選擇性催化還原）方法是目前火電、水泥、鋼鐵、焦化等企業(yè)脫硝領(lǐng)域最為成熟有效的一種技術(shù)。在290℃至430℃的溫度區(qū)間以及催化劑的協(xié)同作用下，NOx與氨（NH3）會(huì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，將NOx
2025-03-25
項(xiàng)目背景合作背景在“雙碳"目標(biāo)推動(dòng)下，煤礦瓦斯（主要成分為甲烷）的減排與資源化利用成為能源環(huán)保領(lǐng)域的重要方向。乏風(fēng)瓦斯發(fā)電技術(shù)通過摻混低濃度瓦斯與空氣或乏風(fēng)，將甲烷濃度精準(zhǔn)控制在1.0%～1
2025-04-03
項(xiàng)目背景合作背景在全球綠色低碳轉(zhuǎn)型的浪潮下，鋼鐵行業(yè)作為傳統(tǒng)高耗能、高排放領(lǐng)域，面臨著節(jié)能減排的重大壓力。近年來，隨著我國“雙碳"目標(biāo)的明確提出以及環(huán)保政策的日益嚴(yán)格，鋼鐵企業(yè)被賦予了更高的
2025-04-10
煤氣成分與熱值監(jiān)測(cè)-山西大型有色金屬生產(chǎn)企業(yè)煤氣巡檢項(xiàng)目 煤氣成分與熱值監(jiān)測(cè)-安徽大型鋼鐵冶金企業(yè)煤氣防護(hù)站氣體巡檢項(xiàng)目 煤氣成分與熱值監(jiān)測(cè)-陜北大型能源化工企業(yè)氣體濃度與熱值監(jiān)測(cè)項(xiàng)目 
5月11-13日，由中國科學(xué)儀器領(lǐng)域權(quán)威平臺(tái)儀器信息網(wǎng)主辦的第十八屆中國科學(xué)儀器發(fā)展年會(huì)（ACCSI 2025）在上海隆重召開。四方光電作為大會(huì)核心品牌合作伙伴之一，攜前沿技術(shù)成果參與此次行業(yè)盛會(huì)。公
2025年4月14日，武漢環(huán)境保護(hù)產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)正式發(fā)布了“2024年度武漢市環(huán)保產(chǎn)業(yè)百強(qiáng)企業(yè)”名單。憑借在環(huán)保領(lǐng)域的深厚技術(shù)積累以及“誠信為本，品質(zhì)為先，合作共贏”的經(jīng)營(yíng)理念，四方光電股份有限公司榮膺登榜
4月12日，第二十三屆中國國際環(huán)保展覽會(huì)（CIEPEC 2025）在京圓滿落幕。作為行業(yè)領(lǐng)先的氣體分析儀器與系統(tǒng)化解決方案提供商，四方儀器以十年參展積淀，攜前沿技術(shù)與創(chuàng)新成果亮相展會(huì)，全方位展示環(huán)境監(jiān)
一、關(guān)稅博弈下的行業(yè)困境：進(jìn)口設(shè)備成本失控2024年5月以來，中美歐關(guān)稅博弈持續(xù)升級(jí)：美國擴(kuò)大對(duì)華高額關(guān)稅覆蓋領(lǐng)域，歐盟加速推進(jìn)反補(bǔ)貼調(diào)查，技術(shù)圍堵態(tài)勢(shì)愈演愈烈。2025年開年后，關(guān)稅博弈更是顯現(xiàn)出多
1. 腔室清潔終點(diǎn)精確控制的重要性與挑戰(zhàn)薄膜沉積（如CVD/ALD）、光刻和刻蝕是半導(dǎo)體制造的三大核心工藝，其中薄膜沉積作為基礎(chǔ)環(huán)節(jié)，負(fù)責(zé)金屬、介質(zhì)及半導(dǎo)體薄膜的制備。為確保薄膜沉積工藝的穩(wěn)
在復(fù)雜的工業(yè)生產(chǎn)環(huán)境中，電氣設(shè)備的防爆功能至關(guān)重要。它如同一道堅(jiān)固的防線，有效防止因電氣火花或高溫使自身成為點(diǎn)火源而引發(fā)的爆炸事故，保障人員生命安全和企業(yè)財(cái)產(chǎn)不受損失。2014年，江蘇昆山某金屬制品公
四方光電氧傳感器芯片的工作原理介紹？四方光電氧傳感器芯片的使用方法？四方光電氧傳感器芯片多少錢一臺(tái)？四方光電氧傳感器芯片使用的注意事項(xiàng)四方光電氧傳感器芯片的說明書有嗎？四方光電氧傳感器芯片的操作規(guī)程有嗎？四方光電氧傳感器芯片的報(bào)價(jià)含票含運(yùn)費(fèi)嗎？四方光電氧傳感器芯片有現(xiàn)貨嗎？四方光電氧傳感器芯片包安裝嗎？
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