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Genius IF

多元素EDXRF光譜分析儀

采用二次靶技術(shù)

能量色散X射線熒光光譜儀Genius IF

Genius IF提供了一種經(jīng)濟(jì)高效的元素分析解決方案。該能量色散X射線熒光（EDXRF）光譜儀可以對(duì)C（6）- Fm（100）范圍內(nèi)的多種元素進(jìn)行亞ppm級(jí)別無(wú)損定性及定量元素分析。

高度集成的光譜儀采用復(fù)雜獨(dú)特的設(shè)計(jì)結(jié)合了自定義濾光片和二次靶技術(shù)，可放在傳統(tǒng)實(shí)驗(yàn)室工作臺(tái)上，適用于多種高端應(yīng)用領(lǐng)域。

無(wú)損元素分析

通過(guò)使用標(biāo)樣或無(wú)標(biāo)樣方法（基本參數(shù)）進(jìn)行定性及定量分析。

硅漂移探測(cè)器（SDD）

高計(jì)數(shù)率及分辨率的SDD探測(cè)器，分辨率可達(dá)125eV，探測(cè)范圍C（6）- Fm（100）。

X射線源

激發(fā)性能可達(dá)50kV，50W，Rh靶材料，分析濃度探測(cè)限范圍可達(dá)亞ppm至100%，其**的性能可適用于復(fù)雜應(yīng)用。

輕元素探測(cè)

超薄探窗能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)低序元素探測(cè)分析的優(yōu)異性能。

二次靶技術(shù)及濾光片

采用**幾何結(jié)構(gòu)，設(shè)計(jì)8個(gè)二次靶及8個(gè)自定義濾光片，可快速準(zhǔn)確的測(cè)定痕量和微量元素。

Analytix專用軟件

Analytix專用軟件優(yōu)異性能以及易用的GUI能夠?qū)?xiàng)目分析和管理提供*快速直接的反應(yīng)并得到結(jié)果。

定量分析算法

通過(guò)元素間修正進(jìn)行多元回歸分析（6個(gè)可用模型）。總計(jì)數(shù)、凈計(jì)數(shù)擬合及數(shù)字濾波強(qiáng)度等工具。

二次靶技術(shù)

全能型元素分析儀

Genius IF采用**幾何結(jié)構(gòu)，設(shè)計(jì)8個(gè)二次靶并配備直接激發(fā)模式下8個(gè)自定義濾光片，使得儀器以**的激發(fā)方式檢測(cè)所有元素。WAG（廣角幾何）**技術(shù)下的二次靶技術(shù)為痕量元素和微量元素的測(cè)量提供了**的解決方案。

由X射線管激發(fā)產(chǎn)生的射線激發(fā)二次靶材料（純金屬）的特征K線，進(jìn)而用于激發(fā)待測(cè)樣品。通過(guò)使用二次靶技術(shù)，可進(jìn)一步降低某些元素的檢測(cè)限。更低的檢測(cè)限意味著Genius IF能夠異于傳統(tǒng)EDXRF儀器而適用于更加廣泛的用途，成為一款全能型多元素分析儀器。

二次靶技術(shù)與直接激發(fā)模式譜圖對(duì)比：

圖中顯示了峰背比提升的效果，其中藍(lán)色輪廓部分代表使用了二次靶技術(shù)，而紅色區(qū)域部分為直接激發(fā)模式的圖譜。