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脈沖激光沉積、分子束外延薄膜制備系統(tǒng)(NEW)
脈沖激光沉積、分子束外延薄膜制備系統(tǒng)(NEW)

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脈沖激光沉積、分子束外延薄膜制備系統(tǒng)

美國(guó)BlueWave公司是半導(dǎo)體設(shè)備、材料生產(chǎn)商。BlueWave提供多種薄膜制備系統(tǒng),包括脈沖激光沉積(PLD)、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)、反應(yīng)濺射、熱絲化學(xué)氣相沉積(HFCVD)、熱化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(TCVD)。這些系統(tǒng)是*理想的薄膜與涂層合成設(shè)備??芍苽涞谋∧ぐǖ?、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料。Blue Wave還提供相關(guān)系統(tǒng)配件,例如基片加熱裝置、原位監(jiān)測(cè)工具。此外,BlueWave還為您提供標(biāo)準(zhǔn)的薄膜以及材料涂層,例如氧化物涂層、導(dǎo)電薄膜、無(wú)定型或納米晶Si/SiC、晶體AlN-GaN、聚合物、納米鉆石、HFCVD鉆石涂層以及器件加工。

1、脈沖激光沉積系統(tǒng)

產(chǎn)品特點(diǎn):

◆ 電拋光多空不銹鋼超高真空腔體

◆ 可集成熱蒸發(fā)源或?yàn)R射源

◆ 可旋轉(zhuǎn)的耐氧化基片加熱臺(tái)

◆ 流量計(jì)或針閥精確控制氣體流量

◆ 標(biāo)準(zhǔn)真空計(jì)

◆ 干泵與渦輪真空泵

◆ 可選配不銹鋼快速進(jìn)樣室

◆ 可選配基片-靶材距離自動(dòng)控制系統(tǒng)

◆ 可制備:金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬納米薄膜、多層膜、超晶格等。

2、物理氣相沉積系統(tǒng)(Physical Vapor Deposition Plus)

產(chǎn)品特點(diǎn)◆ 超高真空不銹鋼腔體

◆ 電子束、熱蒸發(fā)、脈沖激光沉積可集成

◆ 獨(dú)立襯底加熱,可旋轉(zhuǎn)

◆ 多量程氣體流量控制器

◆ 標(biāo)準(zhǔn)氣壓計(jì)

◆ 機(jī)械、分子、冷凝真空泵

可選不銹鋼快速進(jìn)樣室

◆ 襯底和源距離可控

◆ 可用于金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬薄膜

3、熱化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(TCVD)

產(chǎn)品特點(diǎn)

◆ 高溫石英管反應(yīng)器設(shè)計(jì)

◆ 溫度范圍:室溫到1100℃

◆ 多路氣體精確控制

◆ 標(biāo)準(zhǔn)氣壓計(jì)

◆ 易于操作

◆ 可配機(jī)械泵實(shí)現(xiàn)低壓TCVD

◆ 可用于制備金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬薄膜

◆ 液體前驅(qū)體噴頭

◆ 2英寸超大**溫度均勻區(qū)

4、熱絲化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(HFCVD)

產(chǎn)品特點(diǎn):

◆ 水冷不銹鋼超高真空腔

熱絲易安裝、更換

◆ 4個(gè)不同量程氣體控制器

◆ 標(biāo)準(zhǔn)氣壓計(jì)

◆ 襯底與熱絲距離可調(diào)節(jié)

◆ 2英寸襯底加熱、可旋轉(zhuǎn)

◆ **制備金剛石和石墨烯

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