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超高溫高速退火爐
——在10s 內(nèi)將15mm×15mm 的試樣加熱到1800℃
型號(hào):HT-RTA59HD | 產(chǎn)品介紹: 這款桌面式超高溫高速退火爐以大功率點(diǎn)聚焦加熱以及超高反射效率可以在10s內(nèi)將15mm×15mm的試樣加熱到1800℃,對(duì)SiC以及其它高熔點(diǎn)材料進(jìn)行退火處理。 應(yīng)用: ● SiC氧化膜的生成和激活; ● 半導(dǎo)體開發(fā)與研究; ● 玻璃基板、陶瓷、復(fù)合材料等的熱處理; ● 作為熱處理爐對(duì)高熔點(diǎn)材料進(jìn)行熱處理; ● 陶瓷材料的熱沖擊測(cè)試。 |
特點(diǎn):
可以在10s內(nèi)加熱到超高溫1800℃; 可以加熱后直接水淬; 紅外線燈加熱提供清潔加熱減少灰塵和氣體的生成; | 緊湊的桌面型設(shè)計(jì); 通過(guò)USB與電腦連接,輸入溫度參數(shù); 在加熱過(guò)程中,在電腦屏幕顯示溫度。 |
帶水淬的型號(hào):CAS-59AQ
設(shè)備參數(shù):
溫度范圍 | 室溫-1800℃ |
樣品尺寸 | W15mm×L15mm×T1mm |
樣品支架 | 氧化鋁或者高純碳 |
加熱氛圍 | 多種 |
熱電偶 | JIS B φ0.3 (W-Re可選) |
設(shè)備結(jié)構(gòu)以及樣品支架:
暫無(wú)數(shù)據(jù)!
產(chǎn)品質(zhì)量
售后服務(wù)
易用性
性價(jià)比