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臺式原子層沉積系統(tǒng)
臺式原子層沉積系統(tǒng)

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量子科學儀器貿(mào)易(北京)有限公司

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臺式三維原子層沉積系統(tǒng)ALD

原子層沉積(Atomic layer deposition, ALD)是通過將氣相前驅體脈沖交替的通入反應器,化學吸附在沉積襯底上并反應形成沉積膜的一種方法,是一種可以將物質以單原子膜形式逐層的鍍在襯底表面的方法。因此,它是一種真正的納米技術,以精確控制方式實現(xiàn)納米級的超薄薄膜沉積。由于ALD利用的是飽和化學吸附的特性,因此可以確保對大面積、多空、管狀、粉末或其他復雜形狀基體的高保形的均勻沉積。

美國ARRADIANCE公司的GEMStar XT系列臺式 ALD系統(tǒng),在小巧的機身(78 x56 x28 cm)中集成了原子層沉積所需的所有功能,可*多容納9片8英寸基片同時沉積。GEMStar XT全系配備熱壁,結合前驅體瓶加熱,管路加熱,橫向噴頭等設計, 使溫度均勻性高達99.9%,氣流對溫度影響減少到0.03%以下。高溫度穩(wěn)定度的設計不僅實現(xiàn)在 8英寸基體上膜厚的不均勻性小于1%,而且更適合對超高長徑比的孔徑結構等3D結構實現(xiàn)均勻薄膜覆蓋,可實現(xiàn)對高達1500:1長徑比微納深孔內部的均勻沉積。

GEMStar XT 產(chǎn)品特點:

■ 300℃ 鋁合金熱壁,對流式溫度控制

175℃ 溫控150ml前驅體瓶,200℃ 控輸運支管

可容納多片4,6,8英寸樣品同時沉積

可容納1.25英寸/32mm厚度的基體

標準CF-40接口

可安裝原位測量或粉末沉積模塊等選件

等離子體輔助ALD插件

多種配件可供選擇

GEMStar XT 產(chǎn)品型號:

GEMStar -4 XT:

**4英寸/100 mm基片沉積

單路前驅體輸運支管, 4路前驅體瓶接口

不可升級為等離子體增強ALD

GEMStar -6/8 XT:

**6英寸(150mm)/8英寸(200mm)基片沉積

雙路前驅體輸運支管, 8路前驅體瓶和CF-40接口

可升級為等離子體增強ALD

GEMStar -8 XT-P

**8英寸/200mm基片沉積

雙路前驅體輸運支管, 8路前驅體瓶和CF-40接口

裝備高性能ICP等離子發(fā)生器

13.56 MHz 的等離子源非常緊湊,只需風冷,**運行功率達300W。

標配3組氣流質量控制計(MFC)控制的等離子氣源線,和一條MFC控制的運載氣體線,使難以沉積的氧化物、氮化物、金屬也可以實現(xiàn)均勻沉積。

GEMStar NanoCUBE:

* **100 mm 立方體樣品 沉積

* 單路前驅體輸運支管, 2路前驅體瓶接口

* 主要用于3D多孔材料,以及厚樣品的沉積

豐富配件:

多樣品托盤:

* 多樣品夾具,樣品尺寸(8", 6", 4")向下兼容。

* 多基片夾具,*多同時容納9片基片。

溫控熱托盤:

* 可加熱樣品托盤,**溫度500℃,可實現(xiàn)熱盤-熱壁復合加熱方式。

粉末沉積盤:

臭氧發(fā)生器:

真空進樣器(Load Lock)

晶振測厚儀

前驅體瓶:

前驅體加熱套:

粉末旋轉沉積罐模塊:

配合熱壁加熱方式,進一步實現(xiàn)對微納粉末樣品全保型薄膜均勻沉積包覆。

手套箱接口:

可從側面或背面**接入手套箱,與從底部接入手套箱不同,不占用手套箱空間。由于主機在手套箱側面,反應過程中不對手套箱有加熱效應,不影響手套箱內溫度。

應用案例

應用領域

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已發(fā)表文獻

1、LoïcAssaud et al. Systematic increase of electrocatalytic turnover over nanoporousPt surfaces Prepared by atomic layer deposition. J. Mater. Chem. A (2015) DOI: 10.1039/c5ta00205b

2、XiangyiLuo et al. Pd nanoparticles on ZnO-passivated porous carbon by atomic layer deposition: an effective electrochemical catalyst for Li-O2 battery. Nanotechnology(2015) 26, 164003. DOI:10.1088/0957-4484/26/16/164003

3、HengweiWang, et al. Precisely-controlled synthesis of Au@Pd core–shell bimetallic catalyst via atomic layer deposition for selective oxidation of benzyl alcohol. Journal of Catalysis (2015) 324, 59–68. DOI: 10.1016/j.jcat.2015.01.019

4、 Sean W. Smith, et al. Improved oxidation resistance of organic/inorganic composite atomic layer deposition coated cellulose nanocrystal aerogels. J. Vac. Sci. Technol. A (2014) 4, 32 DOI: 10.1116/1.4882239

5、Fatemeh Sadat MinayeHashemi et al. A New Resist for Area Selective Atomic and Molecular Layer Deposition on Metal−Dielectric Patterns. J. Phys. Chem. C (2014), 118, 10957−10962. DOI: 10.1021/jp502669f

6、Jeffrey B. Chou, et.al Enabling Ideal Selective Solar Absorption with 2D Metallic Dielectric Photonic Crystals. Adv. Mater. (2014), DOI: 10.1002/adma.201403302.

7、 Jin Xie, et al. Site-Selective Deposition of Twinned Platinum Nanoparticles on TiSi2 Nanonets by Atomic Layer Deposition and Their Oxygen Reduction Activities. ACS Nano (2013), 7, 6337–6345. DOI: 10.1021/nn402385f

8、Pengcheng Dai, et al. Solar Hydrogen Generation by Silicon Nanowires Modified with Platinum Nanoparticle Catalysts by Atomic Layer Deposition. Angew. Chem. Int. Ed. (2013), 52, 1 –6. DOI: 10.1002/anie.201303813

9、Joseph Larkin et al. Slow DNA Transport through Nanoporesin Hafnium Oxide Membranes. ACS Nano(2013), 11, 10121–10128. DOI: 10.1021/nn404326f

10Thomas M et al. Extended lifetime MCP-PMTs: Characterization and lifetime measurements of ALD coated microchannel plates, in a sealed photomultiplier tube Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A (2013) 732, 388–391. DOI: 10.1016/j.nima.2013.07.023

11Kevin J. Maloney et al. Microlattices as architected thin films: Analysis of mechanical properties and high strain elastic recovery. APL Mater. 1, 022106 (2013) DOI: 10.1063/1.4818168

12 Sean W. Smith et al. Improved Temperature Stability of Atomic Layer Deposition Coated Cellulose Nanocrystal Aerogels. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. (2012) DOI: 10.1557/opl.2012.

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