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ZEISS ΣIGMA熱場發(fā)射掃描電鏡
ZEISS ΣIGMA熱場發(fā)射掃描電鏡

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德國

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深圳華普通用科技有限公司

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ZEISS ΣIGMA 電鏡為肖特基(Schottky)熱場發(fā)射掃描電鏡。目前歐美地區(qū)比較推崇熱場發(fā)射電鏡,而日本較熱衷于冷場發(fā)射電鏡。

該場發(fā)射掃描電鏡主要有如下特點:

1.探針電流較大,可達20nA(100nA可選),可容易進行BSE、EDS、WDS、EBSD、CL等分析。而一般冷場發(fā)射探針電流達不到這個數(shù)量級,有些分析工作(如WDS、EBSD、CL等)在冷場電鏡上難以進行。

2.平行束的電子光學(xué)系統(tǒng):

ΣIGMA 系列熱場發(fā)射掃描電鏡鏡筒系統(tǒng)電子光學(xué)設(shè)計新穎獨特,稱為GEMINI鏡筒。在光源與樣品之間,入射電子束不形成交叉點,這與其它掃描電鏡明顯不同。入射電子束無交叉點光學(xué)設(shè)計的作用在于:⑴降低入射電子束之間的庫侖統(tǒng)計相互作用(減少電子碰撞,降低色差);⑵降低外部環(huán)境雜散磁場對入射電子束的影響。因此,GEMINI鏡筒設(shè)計確保了入射電子束的亮度及圖像分辨率。特別在低入射能量應(yīng)用時,上述作用尤為重要。

3.可擴展性:標(biāo)配所有的接口,可以兼容市場上所有的電鏡相關(guān)附件,如:能譜儀、波譜儀、EBSD、CL、冷凍臺、拉伸臺、等離子清洗裝置等,后續(xù)升級沒有任何障礙。

4.電子束噪聲較小,<1%。

5.束流穩(wěn)定度高,優(yōu)于0.2%/h,適宜于長時間的各種精確分析。

上述兩項指標(biāo)其它廠家均未給出。在理論上冷場發(fā)射要比熱場發(fā)射要差一個數(shù)量級。

6.所需的工作真空度(包括電子槍真空度和樣品室真空度)較低,對環(huán)境、樣品要求不高。而冷場發(fā)射電鏡的真空度比熱場要高2個數(shù)量級,真空系統(tǒng)復(fù)雜,如樣品不清潔、有揮發(fā)、放氣等情況,抽真空較困難。

7.采用動態(tài)/靜態(tài)磁透鏡(雙子星座),沒有雜散磁場,可對鐵磁體樣品進行高分辨率成像。(蔡司是行內(nèi)**可以承諾做磁性材料的電鏡品牌)

8.超大樣品室:樣品室尺寸達到365mm(內(nèi)直徑)×275mm(內(nèi)高度),五軸馬達驅(qū)動全優(yōu)中心樣品臺,行內(nèi)**的五軸樣品臺移動范圍:X = 125mm,Y = 125mm,Z = 50mm,T = 0 to 90°,R = 360° ,為使用提供了極大的方便。

9.抽屜式樣品室拉門,方便樣品更換及大樣品、形狀復(fù)雜樣品的觀察,**樣品直徑可達250mm以上,**樣品高度約為145mm。而冷場掃描電鏡由于要求的真空度較高,不宜破壞樣品室真空,一般用“樣品交換氣鎖”來更換樣品,操作麻煩,且進出樣品的尺寸、形狀受限,一般樣品**直徑不超過100mm,**樣品高度約為26mm。

10.采用全自動控制無油式真空系統(tǒng),采用機械泵+磁懸浮分子渦輪泵+離子泵,無油污染。

11.獨特的環(huán)形In-lens二次電子探測器,探測效率高、圓周對稱。而其他廠家的In-lens探測器安裝在一側(cè),且結(jié)構(gòu)復(fù)雜。

12.維護簡便,且工作穩(wěn)定。冷場電鏡每8個小時都需要Flash(陰極還原),且發(fā)射電流不穩(wěn)定,使用維護麻煩。而熱場電鏡無此麻煩。

13.末級光欄采用多孔光欄結(jié)構(gòu),用電磁方式進行更換和對中調(diào)整,操作方便。鏡筒上無需用戶調(diào)整的部件。

14.高景深:物鏡光欄放在燈絲下,景深行內(nèi)**。

15.多功能控制面板:方便進行聚焦、消像散、電位移、放大倍率調(diào)整等。

16.可選配光電一體化模塊,實現(xiàn)與光學(xué)顯微鏡連用:實現(xiàn)低倍定位,拍照等功能。

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