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三靶大面積濺射系統(tǒng)之高分辨渦輪泵版本，CPU程序全自動(dòng)控制，觸膜屏用戶界面，標(biāo)配有擋板和靶材預(yù)清潔程序，既適合貴金屬、也適合易氧化金屬等多種靶材鍍膜。

Q300T T鍍膜儀是為薄膜應(yīng)用而設(shè)計(jì)的多功能離子濺射鍍膜儀，也是鎢燈絲和場(chǎng)發(fā)射電鏡觀察之大樣品制備的理想鍍膜儀。為了確保精細(xì)沉積，Q300系列鍍膜儀設(shè)有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)和三只相同的磁控靶組件，這也將提高采用低電壓濺射的工作效率。該系統(tǒng)之高分辨渦輪泵版本Q300T T鍍膜儀標(biāo)配有擋板，作用是在保持真空條件下使易氧化金屬靶材先進(jìn)行清潔處理，然后再執(zhí)行鍍膜循環(huán)。所以，它既適合使用不氧化的貴金屬如金（Au）、鉑（Pt）等靶材鍍膜，也適合易氧化金屬如鉻（Cr）、鋁（Al）、鈦（Ti）、鋅（Zn）或氧化銦錫（ITO）、銥（Ir）等多種靶材鍍膜。

和極其成功的Q150系列濺射儀、蒸鍍儀一樣，Q300T T型鍍膜儀裝在一個(gè)符合人機(jī)工程學(xué)設(shè)計(jì)的、堅(jiān)固的整體成型機(jī)箱中，并且集成有觸摸屏控制，對(duì)有經(jīng)驗(yàn)的熟手和**次使用的用戶都適合的簡(jiǎn)單操作，從而可提供**的鍍膜質(zhì)量。

主要特點(diǎn)：

• Large format chamber.The Q300T T sputter coaters incorporate a 300mm x 127mm work chamber and the sample stage accepts substrates up to 8” in diameter. An extended height glass chamber is available as an option to enable coating of larger format samples. 大腔室。Q300T T型濺射鍍膜儀設(shè)有尺寸為300mm x 127mm的工作腔室和適用于**直徑達(dá)8”樣品的樣品臺(tái)。可選配加長(zhǎng)高腔室，以便于大且高的樣品鍍膜。

• Triple sputter head 三靶大面積濺射

• High resolution turbo pumped system 高分辨渦輪泵版本；抽速5 m3/hr的渦卷泵或隔膜泵(隔膜泵僅用于Q300T T)可很好地替代普通的前級(jí)旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵，適合于無(wú)油或無(wú)塵室環(huán)境質(zhì)量要求高的抽真空?qǐng)龊稀?/p>

• Fully automated touch screen control 全自動(dòng)觸摸屏控制

• Coater logging option 鍍膜儀日志（選項(xiàng)）

• Customer defined coating protocols 用戶自定義鍍膜方案

• Film thickness monitor option 膜厚監(jiān)控（選項(xiàng)），可通過(guò)腔室內(nèi)的晶振片裝置測(cè)量鍍膜厚度，也可預(yù)設(shè)厚度去控制材料沉積在樣品上的膜厚度，達(dá)到需要的鍍膜厚度時(shí)，鍍膜儀可自動(dòng)停止鍍膜

• Vacuum shutdown 真空閉鎖功能

• Emergency stop switch 緊急停止開(kāi)關(guān)