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簡介
PECVD工藝中由于等離子體中高速運動的電子撞擊到中性的反應(yīng)氣體分子,就會使中性反應(yīng)氣體分子變成碎片或處于激活的狀態(tài)容易發(fā)生反應(yīng);借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強,很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜;具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質(zhì)量好、針孔較少、不易龜裂等優(yōu)點;
1200℃高真空PECVD系統(tǒng)通過滑動爐體來實現(xiàn)快速的升降溫,配置不同的真空系統(tǒng)來達(dá)到理想的真空度;同時通過多路高精度質(zhì)量流量計控制不同氣體。 主要應(yīng)用于高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備,生長薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復(fù)合薄膜等,也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。同時上海煜志良好的售后服務(wù),使得該產(chǎn)品的整體評價遠(yuǎn)超同行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。
主要技術(shù)參數(shù)
爐體結(jié)構(gòu) | 整機采用SUS304不銹鋼材質(zhì),流線型外觀,斷熱式結(jié)構(gòu); 日本技術(shù)真空吸附成型的優(yōu)質(zhì)高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛,保溫性能好; 爐子底部裝有一對滑軌,移動平穩(wěn); 爐子可以手動從一端滑向另一端,實現(xiàn)快速的加熱和冷卻; 爐蓋可開啟,可以實時觀察加熱的物料 |
尺寸重量 | 1730*660*1130mm;凈重:210kg |
電源 | 電壓:AC220V 50/60Hz;功率:4KW |
爐管 | 高純石英管,高溫下化學(xué)穩(wěn)定性強,耐腐蝕,熱膨脹系數(shù)極??; 尺寸:Φ60*1300mm |
法蘭及支撐 | SUS304不銹鋼快速法蘭,通過用高溫“O”型圈緊密密封可獲得高真空; 一個卡箍就能完成法蘭的連接,放、取物料方便快捷; 可調(diào)節(jié)的法蘭支撐,平衡爐管的受力支撐; 包含進(jìn)氣、出氣、真空抽口針閥,KF密封圈及卡箍組合 |
加熱系統(tǒng) | 加熱元件采用康泰爾發(fā)熱絲,表面負(fù)荷高、經(jīng)久耐用; 加熱區(qū)長度:300mm 恒溫區(qū)長度:150mm; 工作溫度:≤1150℃; **溫度:1200℃; 升溫速率:10℃/min |
溫控系統(tǒng) | 日本富士溫控儀表,64段控溫程序,可分步、分段 |
混氣系統(tǒng) | 三路質(zhì)量流量計:數(shù)字顯示、氣體流量自動控制;內(nèi)置不銹鋼混氣箱,每路氣體管路均配有逆止閥;管路采用不銹鋼管,接口為Φ6卡套;每路氣體進(jìn)氣管路配有不銹鋼針閥;通過控制面板上的旋鈕來調(diào)節(jié)氣體流量流量規(guī)格:0~1000sccm(可選); 流量精度:±1.5% |
高真空系統(tǒng) | 采用雙級旋片真空泵+分子泵,極限真空可達(dá)4.0*10^-4Pa; 復(fù)合真空計,配置電阻規(guī)+電離規(guī) 抽速:110L/S; 冷卻:風(fēng)冷; 電源:AC220V 50/60Hz |
射頻電源系統(tǒng) | 輸出功率:0-300W;功率穩(wěn)定度:±0.1%;射頻電源頻率:13.56MHz 穩(wěn)定性±0.005%;**反向功率:120W;射頻電源電子輸出端口:UHF; 冷卻:風(fēng)冷; 電源:AC187-253V 50/60Hz |
可選配件 | 各種剛玉、石英坩堝,石英管,計算機控制軟件 |
保修卡 | 整機一年保修(相關(guān)耗材除外) |
可根據(jù)客戶要求定制!
暫無數(shù)據(jù)!