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LSX-213 G2+ Nd:YAG激光剝蝕系統(tǒng)
LSX-213 G2+ Nd:YAG激光剝蝕系統(tǒng)

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產(chǎn)地

美國

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冠乾科技(上海)有限公司

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LSX-213 G2+ Nd:YAG激光剝蝕系統(tǒng) 品牌介紹

TELEDYNE CETAC TECHNOLOGIES專屬的激光剝蝕/燒蝕品牌PHOTON MACHINES,起源于歷史悠久的商業(yè)化激光剝蝕/燒蝕公司MERCHANTEK公司,具有豐富的激光剝蝕/燒蝕產(chǎn)品設計、研發(fā)、制造經(jīng)驗,尤其具有極其豐富的激光剝蝕/燒蝕的應用經(jīng)驗。PHOTON MACHINES品牌激光剝蝕/燒蝕系統(tǒng)具有完整的產(chǎn)品線,為全球元素分析用戶提供先進的激光剝蝕技術。

應用領域

環(huán)境樣品分析

物證樣品分析
農(nóng)產(chǎn)品樣品分析同位素定性分析
生物樣品分析大體積進樣定量分析
地質(zhì)樣品分析樣品缺陷分析
同位素分析 元素分布圖繪制分析
透明和半透明樣品分析深度剝蝕分析

樣品種類:

方解石;金屬合金;透明和半透明類樣品;骨頭、牙齒和皮毛等;陶瓷;塑料;涂層/鍍層;動植物組織等。

產(chǎn)品綜述

LSX-213 G2+采用技術優(yōu)化的光路設計。使用皮實耐用、且經(jīng)過多種苛刻驗證的LSX-G2平臺,提供超級穩(wěn)定的光學性能和工作穩(wěn)定性。提供常規(guī)分析所需要的所有性能指標,操作成本低,易維護。

LSX-213 G2+內(nèi)置性能良好密閉的泵浦燈和MIL一SPEC標準設計制造的激光源,給操作者帶來超級穩(wěn)定的激光能量和極少的維護成本。配備了高精度獨立減震光學平臺后,LSX-213 G2+能夠在多種苛刻環(huán)境中進行多種樣品分析。

LSX-213 G2+采用了高新技術的高性能硬件和高精度光學部件設計制造,能夠提供極好的光學分辨率,達到清晰的觀察效果的同時具有寬泛的視野。配備高質(zhì)量、多陣列和亮度可調(diào)的透射照明和反射照明系統(tǒng),確保在極大放大倍數(shù)下也能清晰觀察樣品。

LSX-213 G2+ 簡潔實用的結構設計,不僅提供穩(wěn)定的性能,同時具有良好的易維護性。采用開放式樣品池位置設計,能夠兼容多種樣品池,并支持用戶定制樣品池。

軟件控制內(nèi)置光圈自動切換,剝蝕斑點直徑范圍4μm一200μm;系統(tǒng)實現(xiàn)與ICP雙向通訊,實時調(diào)整能量、斑點大小和掃描速度等參數(shù);CETAC產(chǎn)品為您提供便利高效的工作過程,實現(xiàn)定點——剝蝕——分析的三步目標。

性能參數(shù)

激光源和光路單元

·五倍頻213nm Q-switched控制的Nd:YAG固態(tài)激光源,激光能量>4mJ/pluse,<5ns的脈沖寬度。

·<3%的脈沖穩(wěn)定性

·平頂激光技術,達到良好的剝蝕坑

·激光光路和觀察光路獨立設計,防止機械震動干擾和熱源干擾,具有極強的穩(wěn)定性

·輸出能量可調(diào),脈沖頻率可調(diào)(1-20Hz)

·剝蝕斑點范圍(4-200μm)

·完全密閉但易維護的激光源設計

視頻觀察單元

·計算機控制,連續(xù)調(diào)節(jié)的等焦面共焦點設計,顯微光學放大(2.6x-32.5x)

·觀察視野(<6mm),光學分辨率(<2μm)

·高強度LED陣列反射透射和泛光照明系統(tǒng)

·計算機控制的上偏振系統(tǒng),標配下偏振系統(tǒng)

取樣單元

·可拆卸易維護的樣品池石英窗設計

·開放式樣品池位置設計,可靈活多變使用

·多種樣品池可選,含HelEx雙體積雙氣路渦流樣品池

·XY平臺步進分辨率達到0.16μm/step

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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務

10分

易用性

10分

性價比

10分
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