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無(wú)掩膜光刻機(jī)
無(wú)掩膜光刻機(jī)

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主要簡(jiǎn)介:

UTA系列是將DLP投影儀盒金相顯微鏡相結(jié)合的縮小投影型無(wú)掩模曝光系統(tǒng),其價(jià)格低于傳統(tǒng)系統(tǒng)(用于掩膜光刻的圖案投影曝光系統(tǒng)) 可以使用專(zhuān)門(mén)為此目的開(kāi)發(fā)的軟件來(lái)創(chuàng)建想要的圖案。

主要特點(diǎn):

  • 顯微鏡LED曝光單元UTA系列是不需要掩模的用于光刻的圖案投影曝光裝置。

  • 使用金相顯微鏡盒LED光源DLP投影儀,將具有機(jī)微米分辨率的任意圖案投影到涂有抗蝕劑的基板上進(jìn)行曝光。

  • 圖案可以在PC上自由創(chuàng)建。

  • 因?yàn)榭梢栽谄胀ǖ氖覂?nèi)環(huán)境中在各種大小盒形狀的單晶薄片上形成電極,所以它比電子束光刻便宜且簡(jiǎn)單,不需要制造昂貴的電極圖案掩膜。

顯 主要應(yīng)用

  • 薄膜FET和霍爾效應(yīng)測(cè)量樣品的電極形成。

  • 從石墨烯/鉬原石中剝離電極形成并評(píng)估其特性。

  • 研發(fā)應(yīng)用的圖案形成。

技術(shù)參數(shù):

  • 由于顯微鏡和DLP的結(jié)合,可以用很低的成本來(lái)構(gòu)建系統(tǒng)

  • 易于使用的軟件可以輕松的創(chuàng)建曝光圖案

  • 通過(guò)物鏡放大倍率圖案,可以進(jìn)行大范圍的批量曝光

  • 可以連接到您自己的顯微鏡上(選項(xiàng))

  • 分辨率在微米級(jí)

  • 曝光范圍:2.5mm×1.5mm *小100um×60um

  • 可以連接到您自己的顯微鏡上(選項(xiàng))

  • 分辨率在微米級(jí)

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