看了EMS Q150高真空離子濺射儀的用戶又看了
虛擬號將在 180 秒后失效
使用微信掃碼撥號
新一代鍍膜儀-EMS Q150R 型鍍膜儀(真空鍍膜儀/噴碳儀/蒸鍍儀)采用**技術(shù)研制而成,彩色觸摸液晶屏,快速的參數(shù)輸入,數(shù)種碳絲匹配,友好的用戶界面,帶給你不一般的操作感受!
提供3個版本的儀器:
EMS150R S – 噴金儀/離子濺射儀(適用于真空噴鍍非氧化型金屬,如金,鉑,鈀等)
EMS150R E – 噴碳儀/碳蒸鍍儀(適用于真空噴鍍碳膜,特別適用于SEM)
EMS150R ES –真空鍍膜儀(離子濺射儀和碳蒸鍍儀的結(jié)合體
Q150R是一款多功能緊湊型機械泵抽真空鍍膜系統(tǒng),對于SEM樣品制備及其它鍍膜應(yīng)用非常理想。直徑為165mm/6.5”的腔室可容納多種需要鍍導(dǎo)電膜的樣品 – 尤其用于在SEM應(yīng)用中提高成像質(zhì)量。
Q150R S
機械泵抽真空離子濺射鍍膜儀,適于給樣品鍍制不氧化金屬膜(即貴金屬膜),如金、銀、鉑和鈀。
Q150R E
機械泵抽真空蒸發(fā)鍍碳儀,使用碳絲或碳繩為SEM樣品鍍膜。
Q150R ES
集Q150R S和Q150R E兩者的功能于一體,節(jié)省空間。這個雙重用途、結(jié)構(gòu)緊湊、機械泵抽真空的鍍膜系統(tǒng)標配有濺射插入頭和碳絲蒸發(fā)插入頭 – 可提供****的多用途鍍膜。
此外,輝光放電選項也是可用的(僅Q150R S和Q150R ES版本),它可實現(xiàn)樣品表面改性(如疏水表面改為親水表面)。
快速簡便:快速、易更換的鍍膜插入頭,能在同一個緊湊設(shè)計中實現(xiàn)金屬濺射、碳蒸鍍和輝光放電三者之間的快速轉(zhuǎn)換。
采用全自動觸摸屏控制,可快速輸入數(shù)據(jù)。與鍍膜處理方法及鍍膜材料相適配的鍍膜參數(shù)方案可通過觸摸按鍵實現(xiàn)預(yù)設(shè)并儲存。自動放氣控制功能確保了濺射期間**的真空狀態(tài),可提供良好的一致性和可重復(fù)性。
易使用:智能識別系統(tǒng)可自動探測安裝了何種類型的鍍膜插入頭,以便立即運行相應(yīng)的鍍膜方案??纱鎯Χ鄠€用戶自定義的鍍膜方案 – 這對于需更改鍍膜參數(shù)實現(xiàn)不同應(yīng)用的多用戶實驗室非常理想。多種樣品臺組件適用于各種尺寸和類型的樣品;所有樣品臺都帶有快速、易更換及落入式設(shè)計的特點。
功能強大、可重復(fù)鍍膜及高可靠性:可預(yù)編程的鍍膜參數(shù)及方案能確保一致且可重復(fù)的結(jié)果。需要沉積厚膜時,本系統(tǒng)提供長達60分鐘且無需破真空的濺射時間。設(shè)計先進的碳蒸鍍插入頭操作簡單,具有對蒸發(fā)電流參數(shù)的完全控制,確保了SEM應(yīng)用中一致的和可重復(fù)的碳沉積??蛇x的膜厚監(jiān)控附件用于可重復(fù)的膜厚控制。
適配性強且用途廣:濺射、碳蒸鍍、輝光放電插入頭及多種可選件,使Q150R對于多用戶實驗室應(yīng)用非常理想??蔀R射一系列不氧化金屬,如金、銀、鉑和鈀。碳絲蒸鍍插入頭處理樣品速度非???。也可選用碳棒蒸發(fā)。還可應(yīng)用于金屬薄膜研究及電極的應(yīng)用。
儀器尺寸 | 585mm(W) x 470mm(D) x 410mm(H) |
包裝尺寸 | 725mm W x 660mm D x 680mm H (36.8kg) |
工作腔室 | 硼硅酸鹽玻璃152mm (內(nèi)直徑)x 127mm H |
安全鐘罩 | 聚乙烯對苯二酸,柱形 |
顯示屏 | 彩色液晶320 x 240 |
用戶界面 | 直觀的圖形界面,觸摸鍵。記憶功能:維護提醒及*后十個鍍膜方案日志記錄 |
重量 | 28.4Kg |
樣品臺 | 直徑為50 mm的旋轉(zhuǎn)樣品臺,上有6個樣品座,可配15mm, 10mm, 6.5mm或者3.1mm樣本座,轉(zhuǎn)速為8-20rpm |
真空泵 | Edwards RV3 50L/s兩級真空泵,Pirani 真空計 |
極限真空度 | 潔凈系統(tǒng)可達 2x10-2 mbar,充氮氣 |
噴鍍真空范圍 | 3 x 10-2 -5 x 10-1mbar |
安培計 | 碳繩:0-60 Amps,1.4mm 碳棒:1-90 Amps |
暫無數(shù)據(jù)!