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Plasma Wand手持式大氣等離子清洗機
PLASMA WAND 是一款可以握在手中操作的等離子體發(fā)生設備，無需外部氣體，只需接通電源即可工作運行。PlasmaWand是一款**的小型設備，適用于研究所，大學的實驗室，或者任何需要小型等離子設備的場合。 PLASMA WAND非常適合大樣品焊接或粘合前的表面清洗和表面活化處理。Plasma Wand是一體化等離子裝置，雖然簡單卻可以提供多種功能的解決方案，同其他等離子系統(tǒng)一樣，提供一致的和可重復的結果。 PLASMA WAND噴嘴包括： 1. 標準噴嘴：用于清洗塑料、橡膠和絕緣材料。 2. 近距離噴嘴：用于清洗金屬和導電材料 3. 多組分氣體噴嘴：使用氬氣或氦氣作為輸入氣體。 PE成立于1980年，致力于提供電子行業(yè)用的等離子設備及相關服務。通過幾十年的發(fā)展，公司發(fā)展成為提供等離子設備方面的專家，可為客戶提供專業(yè)的產(chǎn)品和解決方案，先后眾多知名企業(yè)提供等離子處理設備：美國宇航局NASA， 美國波音Boeing，電子保安系統(tǒng)產(chǎn)品制造商美國霍尼韋爾Honeywell，美國摩托羅拉Moto， 德國拜耳Bayer，世界軍用飛機的領軍企業(yè)美國洛克希德馬丁Lockheed-Martin等等。 Plasma Etch擁有多項***，在開發(fā)和制造等離子設備方面有許多突破性創(chuàng)新，擁有等離子體技術和制造技術領域里有優(yōu)勢的技術。這些**技術的產(chǎn)品線是公司獨有的，生產(chǎn)的等離子設備是業(yè)界公認的集清洗速度、完整均勻性、安全可靠性為一體的等離子處理設備。 標 準 配 置 重量 6盎司/170克 發(fā)生器 30w集成電源 氣體輸入 空氣/氬氣/氦氣 等離子體溫度 < 50℃ 工作距離 5~10mm 處理寬度 5~20mm
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