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離子束刻蝕機
離子束刻蝕機

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型號

離子束刻蝕機

品牌

艾科威

產(chǎn)地

湖南

樣本

暫無
湖南艾科威半導(dǎo)體裝備有限公司

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設(shè)備特點

●工件臺:圓周旋轉(zhuǎn)或者掃描運動,刻蝕角度可調(diào),刻蝕均勻性高,兼容刻蝕和拋光功能 

●工件臺采用水冷,確保晶片低溫刻蝕 

●可配置等離子體中和槍,確保晶片表面無電荷積累 

●可配置法拉第測束裝置,確保工藝參數(shù)的可重復(fù) 

●真空系統(tǒng)分子泵/低溫泵可選

 

技術(shù)指標

●工件臺 

    適用晶片尺寸:4"~8",兼容不規(guī)則方片

    圓周旋轉(zhuǎn)/往復(fù)掃描運動

●離子源:考夫曼離子源 

     離子束能量:0eV~1000eV連續(xù)可調(diào) 

     束流 :**200mA (圓形)或**300mA (條形)

●刻蝕均勻性 :片內(nèi)±5%,片間±3%

 

應(yīng)用范圍

  用于在基板表面拋光或材料的去除,尤其適用于金屬材料薄膜的刻蝕,如Cu、Au、Pt、Ti、Ni、NiCr等

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