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ALD原子層沉積設(shè)備品牌
福宜真空產(chǎn)地
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公司開發(fā)的主要設(shè)備有:工模具硬質(zhì)涂層鍍膜設(shè)備、磁控濺射鍍膜設(shè)備、多弧離子鍍膜設(shè)備、磁控濺射復(fù)合多弧離子鍍鍍膜設(shè)備、連續(xù)線式磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線、光學(xué)鍍膜設(shè)備、CVD和PECVD化學(xué)氣相沉積設(shè)備、ICP刻蝕設(shè)備和ALD原子層沉積等系列真空鍍膜和表面處理設(shè)備。
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