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一、產(chǎn)品特點：
    1、面積大：0~?25毫米、0~?50毫米；

    2、濺射樣品表面膜層更均勻；

    3、顆粒度更小（3nm左右）；

    4、濺射到樣品表面能量低，對樣品損傷??；（適用溫度敏感性高的樣品）

    5、可以濺射各種固體靶材（如各種金屬、陶瓷、碳等）；

    6、控制精度高，實驗結果精準可控重復性高；

    7、在同一真空腔內，可實現(xiàn)清洗和鍍膜，降低污染樣品造成的數(shù)據(jù)偏差 ；
    8、加入特殊氣體，可進行反應離子束刻蝕；
    9、可實現(xiàn)的功能有：等離子清洗、鍍膜等；
    10、數(shù)字化自動控制系統(tǒng)。

二、技術參數(shù)：

    1、真空度：極限真空度5*10-3Pa（不通氬氣）；

    2、*高壓：（1）200~6000V；

    3、樣品臺可旋轉；

    4、具有自保護功能；

    5、單離子槍；

    6、樣品冷卻：半導體冷卻（ 選配件）。