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高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PLD300品牌
沈陽(yáng)科學(xué)儀器產(chǎn)地
遼寧樣本
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占地面積（長(zhǎng)x寬x高）:
約1.8米x0.97米x1.9米
電控描述:
全自動(dòng)
工藝:
片內(nèi)膜厚均勻性：≤±5%
產(chǎn)品概述：
系統(tǒng)主要由濺射真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、抗氧化基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成。
設(shè)備用途：
用于制備超導(dǎo)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所進(jìn)行薄膜材料的科研。
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