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高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PLD300品牌
沈陽科學儀器產(chǎn)地
遼寧樣本
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占地面積（長x寬x高）:
約1.8米x0.97米x1.9米
電控描述:
全自動
工藝:
片內(nèi)膜厚均勻性：≤±5%
產(chǎn)品概述：
系統(tǒng)主要由濺射真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺、抗氧化基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。
設備用途：
用于制備超導薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。廣泛應用于大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研。
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