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RDB-BC-C品牌
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1、產(chǎn)品信息
貨號 | 厚度 | 純度（%） | 形貌 | 顏色 |
RDB-BC-C | 可定制 | 99.9 | 靶材 | 黑色或深灰色 |
2、產(chǎn)品規(guī)格
定制
3、產(chǎn)品概述
石墨（C）靶材通常用于物理蒸發(fā)沉積和磁控濺射等薄膜沉積工藝，主要應(yīng)用于制備碳薄膜、導(dǎo)電薄膜、光學(xué)薄膜和其他高科技領(lǐng)域的產(chǎn)品。由于石墨具有良好的導(dǎo)電性和化學(xué)穩(wěn)定性，因此在這些領(lǐng)域中得到廣泛應(yīng)用。例如，石墨靶材可用于制備導(dǎo)電薄膜、光學(xué)涂層、太陽能電池等。此外，石墨靶材還可用于制備顯示器件、光電器件和其他高端工業(yè)產(chǎn)品。
4、產(chǎn)品用途
高純度：石墨靶材通常具有高純度，能夠滿足各種工藝對材料純度的要求。
工藝適用性：石墨靶材可用于不同的薄膜沉積工藝，包括物理蒸發(fā)沉積和磁控濺射等。
應(yīng)用領(lǐng)域：石墨靶材在導(dǎo)電薄膜、光學(xué)涂層、太陽能電池等領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用。
性能優(yōu)異：石墨靶材具有良好的導(dǎo)電性和化學(xué)穩(wěn)定性，能夠滿足高端產(chǎn)品對材料性能的要求。
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