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半自動晶圓刷洗機
TSC-100/300S
該系列設備是晶圓CMP后的專用清洗設備,單工位單腔設計。該系列設備可集成PVA刷洗、兆聲清洗、N2吹干、高速甩干等功能,集成度高,適用于各類半導體晶圓的CMP后清洗。
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產品質量
售后服務
易用性
性價比
陶瓷盤清洗機
水熱合成反應釜
濾布自動清洗裝置
碎玻璃清洗機
等離子清洗機 LPC-100
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