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面議型號(hào)
垂直氧化爐—8寸品牌
華旗科技產(chǎn)地
山東樣本
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垂直氧化系統(tǒng)用于IC集成電路、MEMS、電力電子器件、光電子器件等領(lǐng)域，6"、8"晶圓的氧化、合金、退火等工藝。
產(chǎn)品性能：
*垂直結(jié)構(gòu)，高效產(chǎn)能，150片/批
*穩(wěn)定優(yōu)良的成膜均勻性，重復(fù)性好
*微環(huán)境低氧控制先進(jìn)技術(shù)
*硅片顆粒度控制穩(wěn)定，國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)
*全自動(dòng)流程，盒對(duì)盒，AGV對(duì)接
配套工藝：
*氧化：干氧/濕氧（DCE, HCL）
*氮、氫退火，燒結(jié)、合金，固化等
*快速熱退火
暫無數(shù)據(jù)！
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