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納米材料 二氧化硅拋光液 SiO2
納米材料 二氧化硅拋光液 SiO2

參考價(jià)格

面議

型號(hào)

RDB-FSY-SiO2

品牌

上海研倍

產(chǎn)地

上海

樣本

暫無(wú)
上海研倍新材料科技有限公司

白金會(huì)員

|

第2年

|

生產(chǎn)商

工商已核實(shí)

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核心參數(shù)
  • 目數(shù):

    50-100nm
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上海研倍新材料 專業(yè)生產(chǎn)納米粉末 二氧化硅拋光液 SiO2 納米材料

1、產(chǎn)品信息   

貨號(hào)

純度

規(guī)

形貌

備注

RDB-FSY-SiO2

99.95%

50-100nm

30-40%

2、產(chǎn)品規(guī)格

1、樣品測(cè)試包裝客戶指定(<1kg/袋裝)

2、樣品產(chǎn)品包裝(1kg/袋裝)

3、常規(guī)產(chǎn)品包裝(1kg/2kg/5kg/10kg)

備注:內(nèi):充惰性氣體 外:鋁箔袋真空。可根據(jù)客戶要求指定包裝。

3、產(chǎn)品概述

產(chǎn)品通過“選用凈化原料+生產(chǎn)純化工藝+品控智能控制”制備生成,產(chǎn)品具有技術(shù)含量高、晶相純、磁性異物少、含水量低、化學(xué)性能穩(wěn)定的特點(diǎn)。

4、產(chǎn)品用途

  • 半導(dǎo)體工業(yè):

  • 化學(xué)機(jī)械拋光(CMP):這是二氧化硅拋光液*主要的應(yīng)用。它用于拋光硅晶圓、多層膜、金屬層等,以達(dá)到所需的平面度、粗糙度和表面質(zhì)量。不同的CMP應(yīng)用需要不同粒徑和配方的二氧化硅拋光液,以實(shí)現(xiàn)**的拋光效果。例如,用于平坦化硅晶圓的拋光液粒徑通常較粗,而用于拋光金屬互連層的拋光液粒徑則較細(xì)。

  • 光學(xué)元件拋光:

  • 透鏡、棱鏡、光纖等:二氧化硅拋光液可用于拋光各種光學(xué)元件,以獲得高精度表面,減少光學(xué)元件表面的缺陷,提高光學(xué)性能。此應(yīng)用中對(duì)表面質(zhì)量要求極高,因此需要使用粒徑非常細(xì)的二氧化硅拋光液。

  • 磁頭拋光:

  • 硬盤驅(qū)動(dòng)器磁頭:二氧化硅拋光液用于拋光硬盤驅(qū)動(dòng)器的磁頭,以獲得高精度和低粗糙度的表面,保證數(shù)據(jù)讀取的可靠性。

  • 精密機(jī)械加工:

  • 各種精密零件:用于拋光各種精密零件,以獲得高精度和高質(zhì)量的表面光潔度。

  • 其他應(yīng)用:

  • 液晶顯示屏 (LCD) 拋光:用于拋光LCD玻璃基板。

  • 手表表鏡拋光:用于拋光高精度手表表鏡。

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