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甲烷泄漏檢測(cè)儀品牌
四方儀器產(chǎn)地
湖北武漢樣本
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甲烷泄漏檢測(cè)儀產(chǎn)品介紹
甲烷泄漏檢測(cè)儀由四方儀器自主研發(fā),是基于可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜技術(shù)(TDLAS) 的高性能光學(xué)氣體分析儀。產(chǎn)品采用窄帶激光光譜吸收技術(shù),對(duì)甲烷具有**選擇性,不受其它氣體、水汽、粉塵等干擾,可在野外惡劣工況及復(fù)雜氣體環(huán)境下穩(wěn)定工作。系統(tǒng)配備高性能探頭與特殊工藝處理氣室,在提高檢測(cè)精度與靈敏度的同時(shí),也保證了性能的穩(wěn)定性與更長(zhǎng)的使用壽命。
產(chǎn)品內(nèi)含LoRaWAN / NB-IoT模塊,可以加入物聯(lián)網(wǎng)和網(wǎng)關(guān)遠(yuǎn)程通訊,支持遠(yuǎn)程數(shù)據(jù)傳輸。且配備可充電鋰電池與太陽(yáng)能兩種供電模式,在野外監(jiān)測(cè)過(guò)程中能夠?qū)崿F(xiàn)自主供電,用戶可根據(jù)需要進(jìn)行選配。
甲烷泄漏檢測(cè)儀產(chǎn)品特性
甲烷泄漏檢測(cè)儀應(yīng)用領(lǐng)域
適用于地面管道、廢棄油井或正在使用的活躍油井排放氣體的在線監(jiān)測(cè)及分析
甲烷泄漏檢測(cè)儀技術(shù)參數(shù)
基本參數(shù) | |
測(cè)量組分 | CH4 |
量程范圍 | 0~1000ppm |
報(bào)警誤差 | ±(5ppm+2%讀數(shù)) |
*低檢出限 | 1ppm |
分辨率 | 1ppm |
響應(yīng)時(shí)間 | T90<10s |
測(cè)量周期 | 30s/次 |
數(shù)據(jù)上傳周期 | 2min/次 |
通訊方式 | LoRaWAN / NB-IoT |
防塵防水等級(jí) | IP66 |
產(chǎn)品壽命 | ≥10年 |
產(chǎn)品尺寸(L*W*H) | 186mm*144mm*417mm |
產(chǎn)品重量 | 6.5kg |
環(huán)境條件 | |
工作條件 | 溫度:-20℃~60℃ 濕度:0~95%RH(非冷凝) |
工作氣壓 | 86kPa~106kPa |
適用場(chǎng)所 | 室外 |
電氣參數(shù) | |
供電方式 | 鋰電池+太陽(yáng)能 |
**功率 | 2W |
采用TDLAS技術(shù)窄帶激光光譜吸收法檢測(cè)CH4,不受環(huán)境干擾
響應(yīng)速度快,測(cè)量精度高,使用壽命≥10年
模塊化設(shè)計(jì),安裝簡(jiǎn)單,便于集成,支持遠(yuǎn)程數(shù)據(jù)傳輸
低功耗,兩種供電模式,整機(jī)可在戶外實(shí)現(xiàn)自供電運(yùn)行
方案概述合作背景2023年5月,歐盟委員會(huì)發(fā)布了《歐盟排放交易體系(EUETS)指令》(EU2023/959)和《歐盟MRV法規(guī)》(EU2023/957)的最終修訂文本。從2025年開(kāi)始在歐洲領(lǐng)海運(yùn)營(yíng)
2025-03-24
項(xiàng)目背景SCR(選擇性催化還原)方法是目前火電、水泥、鋼鐵、焦化等企業(yè)脫硝領(lǐng)域最為成熟有效的一種技術(shù)。在290℃至430℃的溫度區(qū)間以及催化劑的協(xié)同作用下,NOx與氨(NH3)會(huì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng),將NOx
2025-03-25
項(xiàng)目背景合作背景在“雙碳"目標(biāo)推動(dòng)下,煤礦瓦斯(主要成分為甲烷)的減排與資源化利用成為能源環(huán)保領(lǐng)域的重要方向。乏風(fēng)瓦斯發(fā)電技術(shù)通過(guò)摻混低濃度瓦斯與空氣或乏風(fēng),將甲烷濃度精準(zhǔn)控制在1.0%~1
2025-04-03
項(xiàng)目背景合作背景在全球綠色低碳轉(zhuǎn)型的浪潮下,鋼鐵行業(yè)作為傳統(tǒng)高耗能、高排放領(lǐng)域,面臨著節(jié)能減排的重大壓力。近年來(lái),隨著我國(guó)“雙碳"目標(biāo)的明確提出以及環(huán)保政策的日益嚴(yán)格,鋼鐵企業(yè)被賦予了更高的
2025-04-10
5月11-13日,由中國(guó)科學(xué)儀器領(lǐng)域權(quán)威平臺(tái)儀器信息網(wǎng)主辦的第十八屆中國(guó)科學(xué)儀器發(fā)展年會(huì)(ACCSI 2025)在上海隆重召開(kāi)。四方光電作為大會(huì)核心品牌合作伙伴之一,攜前沿技術(shù)成果參與此次行業(yè)盛會(huì)。公
2025年4月14日,武漢環(huán)境保護(hù)產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)正式發(fā)布了“2024年度武漢市環(huán)保產(chǎn)業(yè)百?gòu)?qiáng)企業(yè)”名單。憑借在環(huán)保領(lǐng)域的深厚技術(shù)積累以及“誠(chéng)信為本,品質(zhì)為先,合作共贏”的經(jīng)營(yíng)理念,四方光電股份有限公司榮膺登榜
4月12日,第二十三屆中國(guó)國(guó)際環(huán)保展覽會(huì)(CIEPEC 2025)在京圓滿落幕。作為行業(yè)領(lǐng)先的氣體分析儀器與系統(tǒng)化解決方案提供商,四方儀器以十年參展積淀,攜前沿技術(shù)與創(chuàng)新成果亮相展會(huì),全方位展示環(huán)境監(jiān)
一、關(guān)稅博弈下的行業(yè)困境:進(jìn)口設(shè)備成本失控2024年5月以來(lái),中美歐關(guān)稅博弈持續(xù)升級(jí):美國(guó)擴(kuò)大對(duì)華高額關(guān)稅覆蓋領(lǐng)域,歐盟加速推進(jìn)反補(bǔ)貼調(diào)查,技術(shù)圍堵態(tài)勢(shì)愈演愈烈。2025年開(kāi)年后,關(guān)稅博弈更是顯現(xiàn)出多
1. 腔室清潔終點(diǎn)精確控制的重要性與挑戰(zhàn)薄膜沉積(如CVD/ALD)、光刻和刻蝕是半導(dǎo)體制造的三大核心工藝,其中薄膜沉積作為基礎(chǔ)環(huán)節(jié),負(fù)責(zé)金屬、介質(zhì)及半導(dǎo)體薄膜的制備。為確保薄膜沉積工藝的穩(wěn)
在復(fù)雜的工業(yè)生產(chǎn)環(huán)境中,電氣設(shè)備的防爆功能至關(guān)重要。它如同一道堅(jiān)固的防線,有效防止因電氣火花或高溫使自身成為點(diǎn)火源而引發(fā)的爆炸事故,保障人員生命安全和企業(yè)財(cái)產(chǎn)不受損失。2014年,江蘇昆山某金屬制品公