中國粉體網(wǎng)訊 SiC作為襯底材料,單晶SiC的表面粗糙度直接影響其在電子器元件中工作的效果與性能。為確保單晶SiC在半導體、襯底材料中的應用的穩(wěn)定性,其表面粗糙度往往要達到納米級或以下(工業(yè)要求Ra<0.3nm)。眾所[更多]
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