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薄膜制備

推薦ALD緣何成為一項半導體領(lǐng)域的關(guān)鍵技術(shù)

中國粉體網(wǎng)訊 經(jīng)過將近30年的發(fā)展,作為功能薄膜制備中的一項關(guān)鍵技術(shù),原子層沉積(ALD)技術(shù)在催化、半導體、光學等眾多領(lǐng)域都發(fā)揮著十分重要的作用。ALD最初用于平板顯示器所需的多晶熒光材料ZnS、Mn以及非晶Al2O3絕緣[更多]

資訊 原子層沉積技術(shù)ALD薄膜制備半導體應(yīng)用
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