中國粉體網(wǎng)訊 原子層沉積(atomic layer deposition,ALD)是一種先進(jìn)的薄膜沉積技術(shù)。利用ALD的技術(shù)特點(diǎn)和優(yōu)勢,可設(shè)計合成新型高效納米催化劑,并可精確地調(diào)控催化劑的表界面結(jié)構(gòu)。中國科學(xué)院山西煤炭化學(xué)[更多]
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