中國(guó)粉體網(wǎng)訊 原子層沉積(Atomic Layer deposition, ALD)技術(shù)是化學(xué)氣相沉積法(CVD)的一種,最初是由芬蘭科學(xué)家提出并用于多晶熒光材料ZnS、Mn以及非晶 Al2O3絕緣膜的研制,這些材料用于平板[更多]
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